徐颖
- 作品数：8 被引量：31H指数：4
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国防科技技术预先研究基金中国科学院知识创新工程国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信金属学及工艺机械工程更多>>
- 激光用高质量减反射膜的制备被引量：1
- 2005年
- 激光用减反射膜要求镀膜后的基片可以在激光的输出波长处剩余反射率低于0.1%,从这一要求出发,优化设计了两种不同的膜系,并根据膜系的需求采用了两种不同的监控方法,结果发现,使用光学膜厚控制膜层厚度的精度高,误差小,可以在一定程度上提高成品率.使用光学膜厚控制手段成功地制备出用于激光系统的单点632.8nm处剩余反射率低于0.05%,表面形貌均匀且无较大起伏的优质减反射膜.
- 徐颖高劲松王笑夷陈红冯君刚
- 关键词：光学薄膜减反射膜
- 反可见、中红外、透10.6 μm高能激光分色镜的研制被引量：2
- 2004年
- 介绍了利用离子辅助在ZnSe基底上沉积YbF3和ZnSe制作反可见、中红外、透10.6 μm高能激光分色镜的理论和工艺方法.采用红外优秀的镀膜材料YbF3替代传统的有放射性红外镀膜材料ThF4用于制作反可见、中红外、透10.6μm高能激光分色镜取得了较好的效果.同时所研制的分色镜在透射率、反射率,吸收等光学性质,应力硬度牢固度等力学性质,和抗高能激光损伤阈值等方面进行了一系列的测试,基本达到理想的指标.
- 冯君刚王笑夷徐颖高劲松
- 关键词：离子辅助沉积激光阈值光学薄膜
- 霍尔源用于光学镀膜被引量：6
- 2003年
- 报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标 ,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手 ,研究了使用霍尔源所做的单层TiO2 膜的成膜工艺与质量 研究表明 ,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高 ,更加接近于块状材料 ,膜层结构比传统沉积手段更加致密 ,附着力也很高 同时用此项技术沉积了金属增强反射镜 ,试验结果与理论设计结果相符 。
- 贾克辉黄建兵徐颖陈红高劲松曹建林
- 关键词：光学薄膜
- 离子源辅助电子枪蒸发制备Ge_(1-x)C_x薄膜被引量：4
- 2007年
- 应用电子枪蒸发纯Ge,考夫曼离子源辅助的方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜.制备过程中,Ge作为蒸发材料,CH4作为反应气体.通过改变CH4/（CH4＋Ar）的气体流量比（G）,制备了G从40%到85%的Ge1-xCx薄膜.应用X射线衍射仪（XRD）测量了Ge1-xCx薄膜的晶体结构,使用傅里叶红外光谱仪（FTIR）测量了2～22 μm的光学透过率,X射线光电子能谱测试（XPS）计算得到C的含量随G的变化关系,用纳米压痕硬度测试计测量了Ge1-xCx薄膜的硬度,原子力显微镜（AFM）测量了G为60%,85%时Ge1-xCx薄膜的表面粗糙度.测试结果表明：制备的Ge1-xCx薄膜在不同的G值下均为无定形结构.折射率随着G值的增加而减小,在3.14～3.89之间可变,并具有良好的均匀性以及极高的硬度.
- 王彤彤高劲松王笑夷宋琦郑宣明徐颖陈红申振峰
- 反可见、中红外、透10.6 μm高能激光分色镜的研制
- 本文介绍了利用离子辅助在ZnSe基底上沉积YbF3和ZnSe制作反可见、中红外、透10.6μm高能激光分色镜的理论和工艺方法.采用红外优秀的镀膜材料YbF3替代传统的有放射性红外镀膜材料ThF4用于制作反可见、中红外、透...
- 冯君刚王笑夷徐颖高劲松
- 关键词：离子辅助沉积激光阈值光学薄膜
- 文献传递
- 低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜被引量：2
- 2005年
- 溅射镀膜方法是制备ITO透明导电膜最常用也是实验研究最多的方法。实验使用一种不同于溅射方法的另一种制备工艺—低压反应离子镀方法—制备ITO透明导电膜。实验对不同沉积速率和不同氧气流量对ITO透明导电膜的方块电阻以及光学透过率的影响进行了详细地分析,并综合比较得到了当沉积速率为0.5nm/s,氧气流量为24cm3/min时,在波长为550nm处,方块电阻为20Ω,λ=550nm透过率为90.8%的优质ITO透明导电膜。
- 徐颖高劲松王笑夷陈红冯君刚
- 关键词：透过率方块电阻
- ITO材料在减反射膜设计中的应用被引量：11
- 2005年
- 改变ITO材料通常作为透明导电膜单独使用的状况,将其作为减反射膜系中的一层,能够在很大程度上增加ITO透明导电膜在可见光部分的透过率.通过使用将ITO材料置于膜系的内层和最外层两类不同的设计思想,可以使ITO透明导电膜达到相当优良的应用效果.使用低压反应离子镀方法制备了设计的两类减反射膜系,实验证明,膜层在可见光部分的透过率显著提高,剩余反射率明显下降,并得到了平均透过率为95.83%,最高透过率达到97.26%,方块电阻为13.2～24.6Ω/□的试验结果.
- 徐颖高劲松王笑夷陈红王彤彤
- 关键词：方块电阻减反射膜
- 等离子辅助镀膜技术被引量：6
- 2002年
- 传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积,但由于成膜分子的能量较低,使沉积的薄膜排列密度很低,其性能和块状材料区别很大,已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构。薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料,近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题。本文报道了我国自己研制的等离子体源(GIS)的性能指标、用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量,以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺。
- 贾克辉徐颖高劲松曹健林
- 关键词：光学镀膜成膜工艺减反射膜
