王彤彤
- 作品数：55 被引量：138H指数：7
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金博士科研启动基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
- RLVIP技术制备Ge1-xCx薄膜的X射线光电子能谱被引量：3
- 2008年
- 应用低压反应离子镀（RLVIP）技术在Ge基底上沉积了Ge1-xCx巴薄膜。制备过程中，低压等离子源作为辅助等离子源，Ge作为蒸发材料，CH4作为反应气体，在相同的沉积条件下以不同的沉积速率制备了c含量（x）从0．23到0．78的Ge1-xCx薄膜。X射线衍射测试表明制备的Ge1-xCx薄膜为无定形结构。用X射线光电子能谱研究了不同C含量下Ge1-xCx薄膜中C的化学键合变化。研究结果表明：当x〉0．78时，成键为c-H键；当x为0．53～0．62时，成键为c-c键；当x〈0．47时，成键为Ge-C键。
- 王彤彤高劲松宋琦王笑夷陈红郑宣鸣申振峰
- 关键词：X射线光电子能谱离子辅助沉积
- SiO_2单层膜的反常色散研究被引量：2
- 2009年
- 利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致,表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大,等效折射率随波长增加的趋势就越大,薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.
- 李香波高劲松王彤彤王笑夷陈红郑宣明申振峰朱华新尹少辉刘小涵王珊珊
- 关键词：光学薄膜反常色散等效折射率
- 应用SiC反射镜表面改性技术提高TMC光学系统信噪比被引量：8
- 2009年
- 为了消除SiC反射镜的固有缺陷,提高反射式光学系统的信噪比,使用SiC表面改性技术对同轴三反射(TMC)光学系统的SiC反射镜进行了处理。首先,应用等离子体辅助沉积(PIAD)技术沉积了一层Si改性层,接着对改性层进行精密抛光,然后在反射镜表面镀制Ag膜和增强膜,最后获得了表面改性对TMC光学系统信噪比的影响。Wyko轮廓仪测试表明,SiC反射镜的粗糙度Ra由10.42nm降低到了0.95nm;镀制高反射膜后,主镜、次镜、三镜及折叠镜在0.5～0.8μm可见光波段的反射率>98%。计算结果表明,应用了表面改性技术后TMC反射式光学系统的信噪比提高了5%以上,说明SiC表面改性技术是一种提高TMC光学系统信噪比的有效方法。
- 陈红王彤彤高劲松巩盾王笑夷郑宣鸣申振峰张忠玉
- 关键词：表面改性信噪比
- 一种电主动调制的近红外薄膜型滤波器件
- 一种电主动调制的近红外薄膜型滤波器件，属于薄膜沉积技术领域，为了实现使用电主动调制的可以在近红外波段改变滤波器件透过率或反射率的薄膜型滤波器件，本发明包括基底，在基底上面的光学透过区交替沉积多层Si材料层和SiO<Sub...
- 王彤彤宋琦高劲松
- 文献传递
- 超宽截止边带滤光片研究被引量：1
- 2013年
- 以K9为基底设计了一种超宽截止边带滤光片,即:截止带波长0.5～0.85μm、高透波长0.9～1.3μm,膜层总数为57层,总厚度达6.026μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用分光光度计对该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明截止区(0.5～0.85μm)的截止深度达5×10-3以下,截止带宽达350 nm,0.9～1.3μm通带内的平均透过率也达到83.14%,除通带短波边缘外,实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽截止带深截止度、高通带透过率的特性。环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该边带滤光片可以应用于可靠性要求较高的环境中。
- 朱华新王彤彤高劲松刘桂林李帅
- 关键词：光学薄膜滤光片
- 宽通带宽截止带通滤光片研究被引量：6
- 2014年
- 本文以K9为基底设计了一种宽通带宽截止带通滤光片，即：540～750nnl为通带区域，400—520nm、770—1100nm为截止带区域，为实现这一特性，在K9基底的两侧分别设置长波通和短波通组合膜系，分别用于截止400—520nm和770～1100nm，而两者通带交集为540～750nm，膜层总数为48层，膜层总厚度达5．03μm，工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法，薄膜材料仪含有TiO2和SiO2，并分别作为高低折射率材料。利用分光光度计对镀有该组合膜的样品透过率进行测量，测试结果表明540～750nm通带平均透过率达到了85．82％，通带相对半宽度达221nm，400～520nm和770～1100nm的截止度分别达到1．36％和1．27％，实验结果与理论设计基本吻合，达到了宽通带宽截止的目标，环境测试表明：薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该组合膜系可以应用于可靠性要求较高的环境中。
- 朱华新王彤彤高劲松刘桂林李帅
- 关键词：光学薄膜透过率
- 大口径反射镜高反射膜研究进展被引量：8
- 2016年
- 大口径反射镜是大型反射式光学系统中关键的光学元件,在工作波段的反射率直接决定了光学系统的性能。随着地基、天基观测设备的发展,对大口径反射镜高反射膜提出了更宽的工作波段、更高的反射率、更好的环境适应性等要求。针对这些挑战,各种新的膜系结构、新的镀制方法、新的膜层材料纷纷出现,满足了大口径反射镜高反射膜的各种需求。本文对近些年国内外的大口径反射镜高反射膜研究进展予以综述,并预测大口径反射镜高反膜制备的技术趋势将由铝反射膜向银反射膜、由热蒸发向磁控溅射发展。
- 孙梦至王彤彤王延超刘震刘海王笑夷杨海贵高劲松
- 关键词：大口径反射镜高反射膜环境适应性
- 磁控溅射镀膜真空箱体
- 本发明公开了一种磁控溅射镀膜真空箱体，属于薄膜制备设备技术领域。解决了现有技术中磁控溅射镀膜真空箱体结构固定、耗费人力大，对体积限制性强，对于大口径SiC表面改性的局限性大的技术问题。该真空箱体，包括箱盖、上箱体、下箱体...
- 高劲松刘震刘海王笑夷杨海贵王彤彤申振峰
- 文献传递
- 空间反射镜基底材料碳化硅表面改性研究被引量：17
- 2009年
- 直接抛光后的SiC反射镜表面光学散射仍较大,无法满足高质量空间光学系统的应用需求。为此必须对SiC反射镜进行表面改性,以获得高质量的光学表面。目前国际上较为流行的是制备Si或SiC改性层进行表面改性。分别采用离子辅助电子束蒸发方法制备Si和SiC改性层进行改性,相关测试结果表明:Si改性层结构为立方相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.620 nm,散射系数减小到1.52%;SiC改性层结构为非晶相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.743 nm,散射系数减小到2.79%。两种改性层均与基底结合牢固,温度稳定性较高。从可靠性方面考虑,目前在国内第一种方法更适于实际工程应用。该工艺改性后SiC基底表面散射损耗大大降低,表面质量得到明显改善,镀Λg后表面反射率接近于抛光良好的微晶玻璃的水平,已能够满足高质量空间光学系统的应用需要。
- 高劲松申振峰王笑夷王彤彤陈红郑宣鸣
- 关键词：表面改性SI薄膜SIC薄膜
- 镀膜实时闭环控制系统及其控制方法
- 本发明涉及一种镀膜实时闭环控制系统及其控制方法，属于光学镀膜技术领域。解决了如何实现镀膜过程中薄膜厚度的实时监控和闭环补偿的问题。本发明的镀膜实时闭环控制系统，包括探头移动导轨、膜厚监控探头、控制计算模块、电机驱动模块、...
- 张建高劲松刘震王笑夷王彤彤
- 文献传递
