陈红
- 作品数：33 被引量：117H指数：7
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国防科技技术预先研究基金中国科学院国防科技创新基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
- 月基极紫外相机多层膜反射镜被引量：1
- 2013年
- 月基极紫外相机用于月球表面对地球等离子体层辐射出的30.4nm谱线进行成像观测,多层膜反射镜是月基极紫外相机的重要光学元件。根据月基极紫外相机技术参数,选择了B4C/Mg,B4C/Mg2Si,B4C/Al,B4C/Si,Mo/Si等材料,对其周期厚度、材料比例、周期数等参数进行优化。计算了以上材料组合在30.4nm的反射率曲线。考虑到月球环境的特殊性和材料的物理化学性质,从中选择出Mo/Si和B4C/Si两种组合,利用磁控溅射进行镀制。Mo/Si和B4C/Si多层膜在30.4nm反射率分别达到15.3%和22.8%。
- 刘震高劲松陈波王彤彤王笑夷申振峰陈红
- 关键词：极紫外磁控溅射反射率等离子体层
- 用低压反应离子镀的方法制备Ge_(1-x)C_x单层非均匀增透膜的研究被引量：3
- 2007年
- 用低压反应离子镀（RLVIP）的方法在Ge基底上制备了Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜。随着沉积速率在0．05-0．4nm／s之间的变化，其折射率在2．31～3．42之间可变。实验结果表明，镀制的Ge1-xCx单层非均匀增透保护薄膜均为无定形结构，并实现了从2000-8000nm的宽波段增透。当沉积速率为0．1nm／s时，单面平均透过率从68．6％提高到了80．9％，比单面未镀膜时提高了17．9％。通过对薄膜的稳定性和牢固度进行测试表明，制备的Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜具有良好的性能。
- 王彤彤高劲松王笑夷宋琦陈红郑宣明申振峰单兆会
- 关键词：增透膜
- 通过提高生长温度改善碳化锗薄膜的性能
- 2010年
- 利用磁控溅射制备碳化锗(Ge1-xCx)薄膜,系统地研究了生长温度(Tg)对所获薄膜成分及性能的影响并揭示了它们之间的内在关系。研究发现所有Ge1-xCx薄膜样品均为非晶结构,随着Tg从60℃增加到500℃,膜中锗含量增加,而碳含量相对降低,这种成分的改变增加了膜中组成原子的平均质量,进而导致薄膜折射率从2.3增加到4.3,这种折射率大范围连续可调的特性十分有利于Ge1-xCx多层红外增透保护膜的设计和制备。此外研究还发现,随着Tg的增加,Ge1-xCx膜中Ge—H和C—H键逐渐减少,这不但显著减小了薄膜在～5.3μm和～3.4μm处的光吸收,而且显著提高了薄膜的硬度。这些结果表明,提高生长温度是调制Ge1-xCx薄膜成分、改善其光学和力学性能的有效途径。
- 胡超权王笑夷陈红朱嘉琦韩杰才郑伟涛
- 关键词：生长温度
- 空间反射镜基底材料碳化硅表面改性研究被引量：17
- 2009年
- 直接抛光后的SiC反射镜表面光学散射仍较大,无法满足高质量空间光学系统的应用需求。为此必须对SiC反射镜进行表面改性,以获得高质量的光学表面。目前国际上较为流行的是制备Si或SiC改性层进行表面改性。分别采用离子辅助电子束蒸发方法制备Si和SiC改性层进行改性,相关测试结果表明:Si改性层结构为立方相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.620 nm,散射系数减小到1.52%;SiC改性层结构为非晶相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.743 nm,散射系数减小到2.79%。两种改性层均与基底结合牢固,温度稳定性较高。从可靠性方面考虑,目前在国内第一种方法更适于实际工程应用。该工艺改性后SiC基底表面散射损耗大大降低,表面质量得到明显改善,镀Λg后表面反射率接近于抛光良好的微晶玻璃的水平,已能够满足高质量空间光学系统的应用需要。
- 高劲松申振峰王笑夷王彤彤陈红郑宣鸣
- 关键词：表面改性SI薄膜SIC薄膜
- 利用复振幅设计10.6μm偏振分光膜
- 2009年
- 为了得到10.6μm处偏振分光膜,采用薄膜光学的复振幅理论,利用受抑全内反射原理对传统的偏振分光膜的设计思想进行了改进,即通过抑制复振幅反射率为0,得到各膜层厚度。以10.6μm光波入射,仿真了不同入射角条件下的膜层厚度关系曲线,通过对曲线簇交叉点的取值,构建了偏振分光膜系的初始结构,通过Macleod优化设计了10.6μm红外偏振分光膜,所设计的偏振分光膜在10.6μm处,p偏振光透射率达到了92%,s偏振光反射率达到了93%,入射角范围是65～75°(玻璃中),反射偏振光消光比102～103。结果表明:此方法在偏振分光膜设计中有重要的应用价值。
- 尹少辉田志刚高劲松孙世鹏王笑夷陈红王彤彤
- 关键词：复振幅
- 时域有限差分法在一维光子晶体数值模拟方面的研究被引量：1
- 2006年
- 介绍了时域有限差分法的基本原理,并对一维光子晶体薄膜中传播的电磁场作了模拟和分析。通过对光子晶体透射谱的研究,讨论了不同周期数和不同介电常数比对光子晶体带隙的影响,最后通过在周期介质层状结构中引入缺陷层构造了光子缺陷态。
- 宋琦高劲松王笑夷王彤彤陈红郑宣鸣申振峰凌伟
- 关键词：时域有限差分法光子晶体缺陷态
- 离子辅助制备碳化硅改性薄膜被引量：21
- 2008年
- 介绍了一种利用霍尔型离子源辅助电子束蒸发,在反应烧结碳化硅(RB-SiC)材料上制备硅改性薄膜的方法,研究了不同沉积速率下薄膜改性后的抛光效果。对样品进行了表面散射及反射的测量。通过样品的显微照片可知,硅膜层在沉积速率增大的条件下结构趋于疏松。在精细抛光镀制有硅改性薄膜的反应烧结碳化硅样品后,表面散射系数减小到1.46%,反射率接近抛光良好的微晶玻璃。温度冲击实验和表面拉力实验表明:硅膜无龟裂和脱落,性质稳定,与碳化硅基底结合良好。
- 陈红高劲松宋琦王彤彤申振峰王笑夷郑宣鸣范镝
- 关键词：反应烧结碳化硅表面改性离子辅助沉积
- 用低压反应离子镀技术制备的类金刚石薄膜及其表征被引量：1
- 2011年
- 以Ar气作为工作气体,CH_4作为反应气体,利用低压反应离子镀(RLVIP)技术在Ge基底上成功制备出类金刚石(DLC)薄膜。通过拉曼光谱、Perking Elmer GX型红外光谱仪和Nano Indenter XP型纳米压痕硬度测试计分别表征了类金刚石薄膜的微观结构、光学性能和机械性能。结果表明,类金刚石薄膜(I_D/I_G=0.918)具有较高的sp^3键含量,其硬度值达到28.6GPa,弹性模量为199.5GPa;单层膜系在8～11.5μm波段的峰值透过率为63.6%,平均透过率为62%。
- 单兆会高劲松王彤彤申振峰陈红
- 关键词：类金刚石薄膜拉曼光谱显微硬度
- ITO材料在减反射膜设计中的应用被引量：11
- 2005年
- 改变ITO材料通常作为透明导电膜单独使用的状况,将其作为减反射膜系中的一层,能够在很大程度上增加ITO透明导电膜在可见光部分的透过率.通过使用将ITO材料置于膜系的内层和最外层两类不同的设计思想,可以使ITO透明导电膜达到相当优良的应用效果.使用低压反应离子镀方法制备了设计的两类减反射膜系,实验证明,膜层在可见光部分的透过率显著提高,剩余反射率明显下降,并得到了平均透过率为95.83%,最高透过率达到97.26%,方块电阻为13.2～24.6Ω/□的试验结果.
- 徐颖高劲松王笑夷陈红王彤彤
- 关键词：方块电阻减反射膜
- RLVIP技术制备Ge1-xCx薄膜的X射线光电子能谱被引量：3
- 2008年
- 应用低压反应离子镀（RLVIP）技术在Ge基底上沉积了Ge1-xCx巴薄膜。制备过程中，低压等离子源作为辅助等离子源，Ge作为蒸发材料，CH4作为反应气体，在相同的沉积条件下以不同的沉积速率制备了c含量（x）从0．23到0．78的Ge1-xCx薄膜。X射线衍射测试表明制备的Ge1-xCx薄膜为无定形结构。用X射线光电子能谱研究了不同C含量下Ge1-xCx薄膜中C的化学键合变化。研究结果表明：当x〉0．78时，成键为c-H键；当x为0．53～0．62时，成键为c-c键；当x〈0．47时，成键为Ge-C键。
- 王彤彤高劲松宋琦王笑夷陈红郑宣鸣申振峰
- 关键词：X射线光电子能谱离子辅助沉积
