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冯晓敏
作品数:
17
被引量:2
H指数:1
供职机构:
北京七星华创电子股份有限公司
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发文基金:
国家科技重大专项
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相关领域:
石油与天然气工程
电子电信
文化科学
自动化与计算机技术
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合作作者
吴仪
北京七星华创电子股份有限公司
史彦慧
北京七星华创电子股份有限公司
刘效岩
北京七星华创电子股份有限公司
陈洁
北京七星华创电子股份有限公司
刘伟
北京七星华创电子股份有限公司
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机构
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北京七星华创...
作者
17篇
冯晓敏
17篇
吴仪
6篇
史彦慧
5篇
刘效岩
1篇
滕宇
1篇
刘伟
1篇
陈洁
传媒
1篇
半导体技术
年份
2篇
2018
3篇
2017
5篇
2016
1篇
2015
4篇
2014
2篇
2013
共
17
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无损伤单晶圆兆声波清洗装置的研发
被引量:2
2016年
在半导体制造中,随着集成电路特征尺寸的不断缩小,晶圆表面纳米颗粒污染物的无损伤清洗变得越来越具有挑战。介绍了一种自主研发的单晶圆兆声波清洗装置,利用石英微共振腔阵列对到达晶圆表面的兆声波能量进行控制。研究了不同工艺条件下该装置清洗后的颗粒去除效率,并与常规喷嘴的清洗结果进行比较。在图形损伤方面,采用该装置对具有40 nm线宽的多晶硅线条状栅极结构的图形晶圆进行了损伤测试,并与商业化的兆声波清洗装置的清洗结果进行对比。结果表明,该自主研发的装置能够在保证对晶圆表面图形结构没有损伤的前提下,有效地去除颗粒污染物,在40 nm及以下的半导体清洗工艺中应用前景广阔。
滕宇
陈洁
冯晓敏
刘伟
刘效岩
吴仪
关键词:
无损伤
一种具有去除静电作用的清洗装置和清洗方法
本发明公开了一种具有去除静电作用的清洗装置,包括一本体,本体上部设有一至若干个液体进口和一至若干个气体进口,本体下端中部设有一连通液体进口的液体出口,本体下端还设有一或若干个连通气体进口的气体出口,气体出口为喇叭形;其中...
冯晓敏
吴仪
文献传递
一种改善晶圆腐蚀均匀性装置
本实用新型公开了一种改善晶圆腐蚀均匀性装置,包括晶圆载具,所述晶圆载具包括旋转机构及固定机构,所述晶圆载具上端承载晶圆;所述晶圆载具下端设有至少一个扇形部件,所述晶圆载具可旋转并带动晶圆或扇形部件,所述扇形部件与晶圆半径...
冯晓敏
史彦慧
吴仪
文献传递
一种改善晶圆腐蚀均匀性装置及方法
本发明公开了一种改善晶圆腐蚀均匀性装置及方法,包括晶圆载具,所述晶圆载具包括旋转机构及固定机构,所述晶圆载具上端承载晶圆;所述晶圆载具下端设有至少一个扇形部件,所述晶圆载具可旋转并带动晶圆或扇形部件,所述扇形部件与晶圆半...
冯晓敏
史彦慧
吴仪
文献传递
一种具有去除静电作用的清洗装置和清洗方法
本发明公开了一种具有去除静电作用的清洗装置,包括一本体,本体上部设有一至若干个液体进口和一至若干个气体进口,本体下端中部设有一连通液体进口的液体出口,本体下端还设有一或若干个连通气体进口的气体出口,气体出口为喇叭形;其中...
冯晓敏
吴仪
一种带静电液雾清洗装置和清洗方法
本发明公开了一种带静电液雾清洗装置和清洗方法,在清洗装置的本体内设有一液体流道,环绕液体流道设有气体缓冲腔,液体流道连通本体下端面设有的液体出口,气体缓冲腔连通本体下端面环绕液体出口密布设置的多数个气体出口,液体流道、气...
冯晓敏
吴仪
文献传递
一种带静电液雾清洗装置和清洗方法
本发明公开了一种带静电液雾清洗装置和清洗方法,在清洗装置的本体内设有一液体流道,环绕液体流道设有气体缓冲腔,液体流道连通本体下端面设有的液体出口,气体缓冲腔连通本体下端面环绕液体出口密布设置的多数个气体出口,液体流道、气...
冯晓敏
吴仪
晶圆干燥装置及其干燥方法
本发明公开了一种晶圆干燥装置,包括用于承载晶圆的旋转卡盘,所述卡盘上设有扇形区域,所述扇形区域内分布多个扇形沟槽,所述扇形沟槽内设有若干可向晶圆背面喷射干燥气体的喷射孔,每个扇形沟槽内的喷射孔独立连接供干燥气体通过的管道...
史彦慧
冯晓敏
吴仪
一种带静电液雾清洗装置
本实用新型公开了一种带静电液雾清洗装置,在清洗装置的本体内设有一液体流道,环绕液体流道设有气体缓冲腔,液体流道连通本体下端面设有的液体出口,气体缓冲腔连通本体下端面环绕液体出口密布设置的多数个气体出口,液体流道、气体缓冲...
冯晓敏
吴仪
文献传递
一种具有去除静电作用的清洗装置
本实用新型公开了一种具有去除静电作用的清洗装置,包括一本体,本体上部设有一至若干个液体进口和一至若干个气体进口,本体下端中部设有一连通液体进口的液体出口,本体下端还设有一或若干个连通气体进口的气体出口,气体出口为喇叭形;...
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