王凤英
- 作品数：12 被引量：30H指数：3
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 反应磁控溅射法制备HfO_2金刚石红外增透膜被引量：4
- 2008年
- 采用纯铪(Hf)金属靶,在氧+氩反应气氛中进行了HfO2薄膜直流反应磁控溅射沉积。首先在单晶硅片上沉积薄膜,研究工艺参数改变对薄膜的影响,然后选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜,达到增透减反射效果。利用X射线光电子能谱(XPS)研究了O2/Ar比例对薄膜组成的影响。利用X射线衍射仪(GIXRD)和椭偏仪(Ellipsometer)研究了不同衬底温度对氧化铪薄膜组织结构和光学性能的影响。采用傅立叶红外光谱仪(FTIR)检测了镀膜前后金刚石红外透过性能,发现双面镀制HfO2薄膜能够有效提高金刚石在8～12μm的红外透过性能,在8μm处最大增透可达21.6%,使金刚石红外透过率达到88%;在3～5μm范围,双面镀制了HfO2薄膜的金刚石平均透过率达66.8%,比没有镀膜的金刚石在该处的平均透过率54%高出12.8%。
- 郭会斌王凤英贺琦魏俊俊王耀华吕反修
- 关键词：HFO2薄膜红外透过率增透
- 圆柱谐振腔式微波等离子体金刚石膜CVD沉积室的FDTD模拟与优化被引量：7
- 2008年
- 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备高质量金刚石膜的一种最重要的技术手段。对微波等离子体金刚石膜沉积装置进行模拟与优化,可大大减少设计和改进MPCVD装置时所需要的时间与成本。本文在结合使用谐振腔质量因子和沉积台上方等离子体的密度与分布两个优化判据的基础上,采用Matlab语言和时域有限差分方法,模拟了圆柱谐振腔式微波等离子体金刚石膜沉积装置,并对其主要尺寸进行了优化。
- 王凤英唐伟忠孟宪明
- 关键词：金刚石膜微波等离子体谐振腔时域有限差分法
- 强电流直流伸展电弧CVD纳米金刚石涂层微型工具被引量：2
- 2007年
- 本文研制了强直流伸展电弧金刚石涂层沉积设备,它可产生长达400 mm的等离子体弧柱,可沉积金刚石涂层的区域大,能够在复杂形状硬质合金刀具上沉积金刚石涂层,有利于实现金刚石涂层硬质合金工具的产业化生产。在直径1 mm的微型铣刀上沉积了纳米金刚石涂层,研究了沉积压力对金刚石涂层组织的影响,沉积压力对金刚石涂层的晶粒尺寸和表面形貌有显著影响。随着沉积压力的降低,沉积的金刚石涂层晶粒尺寸减小,当沉积压力为0.80 kPa时,可沉积出纳米金刚石涂层。涂层的厚度均匀,其表面光滑、平整,且与硬质合金基体之间有较好的附着力。用激光Ram an对金刚石涂层进行了表征。
- 孟宪明唐伟忠黑立富王凤英姜春生吕反修
- 圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较被引量：13
- 2008年
- 在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱形和椭球形谐振腔式微波等离子体金刚石膜沉积设备中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态。对不同的微波输入功率、不同气体压力条件下,两种谐振腔式设备中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟。模拟结果表明,椭球形谐振腔的质量因子要高于圆柱形谐振腔;并且,椭球形谐振腔更适合用于高功率、高压力的金刚石膜沉积环境。这意味着,使用椭球形谐振腔,可获得更高的金刚石膜生长速率。
- 王凤英郭会斌唐伟忠吕反修
- 关键词：金刚石膜微波等离子体FDTD方法数值模拟
- MPCVD金刚石膜沉积系统谐振腔的模拟、设备的建立和金刚石膜的沉积
- 王凤英
- 关键词：金刚石膜数值模拟微波等离子体化学气相沉积
- 沉积参数对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响被引量：3
- 2009年
- 用强电流直流伸展电弧化学气相沉积金刚石薄膜装置,在CH4-Ar和CH4-H2-Ar气氛中沉积了纳米金刚石薄膜,研究了沉积气氛中H2加入量和沉积压力对金刚石薄膜显微组织和生长机制的影响.沉积气氛中H2含量对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸和生长速度有显著影响,随着H2含量增加,金刚石晶粒尺寸增大,薄膜生长速度提高.在1%CH4-Ar气氛中沉积的纳米金刚石薄膜,晶粒尺寸细小,薄膜表面形貌光滑平整.在1%CH4-少量H2-Ar气氛中沉积的金刚石薄膜,晶粒尺寸小于100nm,薄膜表面形貌较平整.随着沉积压力提高,金刚石薄膜的生长速度增大.用激光Ram an对金刚石薄膜进行了表征.
- 孟宪明王凤英黑立富姜春生唐伟忠吕反修
- 关键词：CVD氢气含量金刚石薄膜
- 三维稳态形核和晶体生长花样形成的机理
- 王凤英
- 关键词：形核晶体生长解析解
- 一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备
- 一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备，属于金刚石膜的化学气相沉积技术领域。包括微波谐振腔的上圆柱体、微波谐振腔的下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、石英窗、等离子体、调节机构一和调节机构二。金刚石膜沉积台、微波反射体...
- 唐伟忠李晓静于盛旺王凤英
- 文献传递
- 高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状
- 金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中,高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术因其产生的等离子体密度高,同时其金刚石膜的沉积过程可控性和洁净性好,因而被认为是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世...
- 唐伟忠于盛旺李晓静王凤英张思凯李义锋
- 文献传递
- 椭球形微波等离子体金刚石膜沉积装置与金刚石膜的制备被引量：3
- 2009年
- 对椭球形谐振腔式微波等离子体(MPCVD)金刚石膜沉积装置的谐振腔进行了模拟,获得了谐振腔中的电场和等离子体分布。运用自行设计和建立的椭球形谐振腔式微波等离子体装置,沉积了纳米和微米尺度的金刚石膜。对金刚石膜的各种性能进行了检测。结果表明,所建成的椭球形谐振腔式的MPCVD金刚石膜沉积装置,可实现微米和纳米尺度不同品质金刚石膜的沉积。
- 王凤英唐伟忠姜春生于盛旺
- 关键词：金刚石膜数值模拟微波等离子体
