孟宪明
- 作品数：8 被引量：15H指数：2
- 供职机构：北京科技大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学化学工程更多>>
- 强电流直流伸展电弧CVD纳米金刚石涂层微型工具被引量：2
- 2007年
- 本文研制了强直流伸展电弧金刚石涂层沉积设备,它可产生长达400 mm的等离子体弧柱,可沉积金刚石涂层的区域大,能够在复杂形状硬质合金刀具上沉积金刚石涂层,有利于实现金刚石涂层硬质合金工具的产业化生产。在直径1 mm的微型铣刀上沉积了纳米金刚石涂层,研究了沉积压力对金刚石涂层组织的影响,沉积压力对金刚石涂层的晶粒尺寸和表面形貌有显著影响。随着沉积压力的降低,沉积的金刚石涂层晶粒尺寸减小,当沉积压力为0.80 kPa时,可沉积出纳米金刚石涂层。涂层的厚度均匀,其表面光滑、平整,且与硬质合金基体之间有较好的附着力。用激光Ram an对金刚石涂层进行了表征。
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- 沉积参数对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响被引量：3
- 2009年
- 用强电流直流伸展电弧化学气相沉积金刚石薄膜装置,在CH4-Ar和CH4-H2-Ar气氛中沉积了纳米金刚石薄膜,研究了沉积气氛中H2加入量和沉积压力对金刚石薄膜显微组织和生长机制的影响.沉积气氛中H2含量对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸和生长速度有显著影响,随着H2含量增加,金刚石晶粒尺寸增大,薄膜生长速度提高.在1%CH4-Ar气氛中沉积的纳米金刚石薄膜,晶粒尺寸细小,薄膜表面形貌光滑平整.在1%CH4-少量H2-Ar气氛中沉积的金刚石薄膜,晶粒尺寸小于100nm,薄膜表面形貌较平整.随着沉积压力提高,金刚石薄膜的生长速度增大.用激光Ram an对金刚石薄膜进行了表征.
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- 关键词：CVD氢气含量金刚石薄膜
- 等离子体化学气相沉积法金刚石涂层的温度测量装置
- 一种等离子体化学气相沉积法金刚石涂层的温度测量装置，属于金刚石涂层技术领域。包括：阴极部分、真空室、真空泵系统、压力测控装置、电源、阴极杆、阴极体、阳极、直流电弧弧柱、制品架、磁场线圈。在拉长的直流电弧弧柱(9)的周围装...
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- 文献传递
- 强电流直流伸展电弧CVD纳米金刚石涂层工具研究
- 孟宪明
- 关键词：硬质合金
- 圆柱谐振腔式微波等离子体金刚石膜CVD沉积室的FDTD模拟与优化被引量：7
- 2008年
- 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备高质量金刚石膜的一种最重要的技术手段。对微波等离子体金刚石膜沉积装置进行模拟与优化,可大大减少设计和改进MPCVD装置时所需要的时间与成本。本文在结合使用谐振腔质量因子和沉积台上方等离子体的密度与分布两个优化判据的基础上,采用Matlab语言和时域有限差分方法,模拟了圆柱谐振腔式微波等离子体金刚石膜沉积装置,并对其主要尺寸进行了优化。
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- 关键词：金刚石膜微波等离子体谐振腔时域有限差分法
- 提高903钢板强韧性的研究
- 孟宪明
- 关键词：强韧性
- 化学气相沉积金刚石涂层硬质合金工具及其应用被引量：1
- 2006年
- 化学气相沉积金刚石涂层硬质合金工具综合了金刚石和硬质合金的优异性能,并且性能价格比非常好,是有发展前途的、理想的工具材料之一。它的应用前景广阔,可广泛应用于难加工材料的切削加工、电子工业和生物医学等诸多领域。
- 孟宪明唐伟忠黑立富
- 关键词：硬质合金工具化学气相沉积金刚石涂层性能价格比难加工材料
- 圆柱谐振腔式MPCVD装置中氢、氩微波等离子体分布规律的数值模拟被引量：2
- 2008年
- 在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱谐振腔式微波等离子体沉积室中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态。在模拟中,针对纳米金刚石的生长环境,就纯氩气反应气体中,不同的输入功率、不同气体压力条件下,沉积室中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟,将其与一般氢气气氛下的相应模拟结果相对比。模拟所获得的结果,对微波等离子体方法沉积金刚石膜的操作环境的优化,有着一定的指导意义。
- 王凤英孟宪明唐伟忠吕反修
- 关键词：金刚石膜微波等离子体FDTD方法数值模拟
