您的位置: 专家智库 > >

王润梅

作品数:36 被引量:35H指数:4
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划中国科学院知识创新工程国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自然科学总论更多>>

文献类型

  • 21篇期刊文章
  • 8篇专利
  • 6篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 27篇电子电信
  • 1篇自然科学总论

主题

  • 13篇晶体管
  • 8篇刻蚀
  • 8篇半导体
  • 7篇电路
  • 7篇异质结
  • 7篇双极晶体管
  • 6篇异质结双极晶...
  • 5篇等离子体刻蚀
  • 5篇自对准
  • 5篇激光
  • 5篇INGAP/...
  • 5篇GAAS
  • 4篇HBT
  • 4篇ICP
  • 4篇INP
  • 3篇等离子体
  • 3篇淀积
  • 3篇准分子
  • 3篇准分子激光
  • 3篇金属

机构

  • 36篇中国科学院微...
  • 5篇中国科学院
  • 1篇四川大学
  • 1篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 36篇王润梅
  • 31篇刘训春
  • 12篇刘新宇
  • 11篇吴德馨
  • 7篇魏珂
  • 7篇曹振亚
  • 7篇罗明雄
  • 6篇钱鹤
  • 6篇苏树兵
  • 5篇徐安怀
  • 5篇于进勇
  • 5篇齐鸣
  • 5篇袁志鹏
  • 5篇李无瑕
  • 4篇钱永学
  • 4篇叶甜春
  • 4篇张龙海
  • 3篇欧文
  • 3篇张海英
  • 3篇刘洪民

传媒

  • 15篇Journa...
  • 3篇功能材料与器...
  • 2篇第十二届全国...
  • 2篇第十二届全国...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇第十二届全国...
  • 1篇第十四届全国...

年份

  • 3篇2007
  • 6篇2006
  • 3篇2005
  • 6篇2004
  • 3篇2003
  • 5篇2002
  • 1篇2001
  • 2篇2000
  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 1篇1995
  • 2篇1994
  • 2篇1991
36 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
GaAs的ICP选择刻蚀研究被引量:6
2000年
选择刻蚀在GaAs工艺中是非常重要的一步。由于湿法腐蚀存在钻蚀和选择性差,且精度难以控制,因此有必要进行干法刻蚀的研究。虽然采用反应离子刻蚀(RIE)、磁增强反应离子刻蚀(MERIE)可以进行选择刻蚀,但是这两种方法在挖槽时会对器件造成较大损伤,影响器件性能。感应耦合等离子刻蚀(ICP)是一种低损伤、高刻蚀速率高选择比的刻蚀方法,在GaAs器件的制造中有突出的优点。本工作进行了GaAs/AlGaAs的选择刻蚀研究,GaAs/AlGaAs的选择比达到840:1,取得较理想的刻蚀结果。
王惟林刘训春魏珂郭晓旭王润梅
关键词:GAAS/ALGAASICP干法刻蚀
KrF准分子激光移相光刻在HEMT栅加工中的应用
1998年
将KrF准分子激光无铬接触式移相光刻应用于深亚微米HEMT栅图形加工,自行设计、组装了一套实验系统,很好地解决了这一器件制作的关键工艺问题。分别采用石英版移相和衬底移相方式,可重复可靠地得到剖面陡直的(0.30—0.35)μm和(0.2—0.25)μm胶阴线条,这一工艺技术完全与现有器件工艺技术兼容,为HEMT深亚微米栅加工提供了一个新的可供选择的方法,文中还从计算机模拟角度对上述两种移相光刻方式作了分析。
钱鹤刘训春王润梅欧文张学曹振亚吴德馨
关键词:深亚微米HEMT半导体制造工艺
一种X射线图形掩模
本实用新型公开了一种用于半导体器件与集成电路工艺的X射线图形掩模,它在掩模线条的侧边设有能够透过X射线的属侧向支撑体,基片可为氮化硅片,金属图形可以是金属线条形成的图形。这样的结构能够提高掩模的合格率、可靠性以及使用寿命...
刘训春陈梦真叶甜春钱鹤王润梅王玉玲孙宝银曹振亚欧文张学
文献传递
自对准GaInP/GaAs HBT器件被引量:8
2002年
利用发射极金属掩蔽进行内切腐蚀的方法研制成自对准 In Ga P/Ga As异质结双极晶体管 ( HBT) ,其特征频率 ( ft)达到 5 4 GHz,最高振荡频率 ( fmax)达到 71GHz,并且 ,这种方法工艺简单 ,成品率高 .文中还对该结果进行了分析 。
钱永学刘训春王润梅石瑞英
关键词:异质结双极晶体管HBT
一种金属-半导体埸效应晶体管
本发明公开了一种利用侧壁自对准技术制造MESFET的结构,在金属栅电极与漏区相邻一侧的侧壁绝缘膜厚度大于与源区相邻一侧的侧壁绝缘膜厚度,这样的非对称结构能够提高MESFET的性能。
刘训春王润梅叶甜春曹振亚
文献传递
晶体管T型发射极或栅极金属图形的制造方法
本发明晶体管T型发射极或栅极金属图形的制造方法属于半导体集成电路工艺。本方法是先在衬底片上涂两层正性光刻胶,或者先淀积一层SiO<Sub>2</Sub>或SiN介质层后涂正性光刻胶,然后光刻出发射极或栅极窗口图形,再用等...
刘训春李无瑕王润梅钱永学吴德馨张龙海郑坚斌罗明雄
InGaP/GaAs HBT 10Gb/s光调制器驱动电路的研制
我们采用微电子中心自行开发的4英寸InGaP/GaAs HBT技术,设计和制造了10Gb/s光调制器驱动电路.并在高频电信号测试上取得突破,该驱动电路的输出电压摆幅达到3Vpp,上升时间达34.2ps(20~80%),下...
刘洪民袁志鹏孙海锋和致经王素琴王润梅刘新宇吴德馨
关键词:光调制器驱动电路
文献传递
Performance of a Self-Aligned InP/GaInAs SHBT with a Novel T-Shaped Emitter
2006年
A self-aligned InP/GalnAs single heterojunction bipolar transistor(HBT) is investigated using a novel T-shaped emitter. A U-shaped emitter layout,selective wet etching,laterally etched undercut, and an air-bridge are applied in this process. The device, which has a 2μm×12μm U-shaped emitter area,demonstrates a common-emitter DC current gain of 170,an offset voltage of 0.2V,a knee voltage of 0.5V, and an open-base breakdown voltage of over 2V. The HBT exhibits good microwave performance with a current gain cutoff frequency of 85GHz and a maximum oscillation frequency of 72GHz, These results indicate that these InP/InGaAs SHBTs are suitable for low-voltage,low-power,and high-frequency applications.
苏树兵刘训春刘新宇于进勇王润梅徐安怀齐鸣
基于MBE生长的一种Be掺杂InGaAs基区的新结构InGaP/InGaAs/GaAs DHBT被引量:2
2006年
报道了一种以InGaAs为基区的新结构InGaP/InGaAs/GaAs双异质结晶体管,获得了直流性能良好的器件.其共射直流增益β达到100,残余电压Voffset约为0.4V,膝点电压Vknee约为1V,击穿电压BVceo超过10V,器件的基极和集电极电流理想因子分别为nb=1.16,nc=1.11,可应用于低功耗、高功率领域.
苏树兵徐安怀刘新宇齐鸣刘训春王润梅
关键词:MBE双异质结双极晶体管
A 162GHz Self-Aligned InP/InGaAs Heterojunction Bipolar Transistor
2006年
An emitter self-aligned InP-based single heterojunction bipolar transistor with a cutoff frequency (fT) of 162GHz is reported. The emitter size is 0.8μm × 12μm, the maximum DC gain is 120, the offset voltage is 0.10V,and the typical breakdown voltage at Ic = 0. 1μA is 3.8V. This device is suitable for high-speed low-power applications,such as OEIC receivers and analog-to-digital converters.
于进勇严北平苏树兵刘训春王润梅徐安怀齐鸣刘新宇
关键词:INPHBTSELF-ALIGNED
共4页<1234>
聚类工具0