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贾传宇
作品数:
18
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供职机构:
北京大学
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相关领域:
电子电信
理学
机械工程
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合作作者
于彤军
北京大学
张国义
北京大学
吴洁君
北京大学
孙永健
北京大学
杨志坚
北京大学
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机构
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东莞市中镓半...
作者
18篇
贾传宇
15篇
张国义
15篇
于彤军
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吴洁君
6篇
杨志坚
6篇
孙永健
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刘鹏
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罗伟科
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杜彦浩
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童玉珍
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康香宁
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冯晓辉
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田朋飞
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邓俊静
2篇
龙浩
2篇
王新强
年份
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2篇
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2016
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2015
2篇
2013
2篇
2012
4篇
2011
1篇
2010
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III族氮化物微观图形结构的选区生长方法及结构
本发明公开了一种III族氮化物微观图形结构的选区生长方法及结构。本发明采用了碳纳米管阵列作为微米/纳米复合尺寸掩膜,既有捆簇内纳米级生长窗口,也有捆簇间微米级生长窗口,二者相间排列,利用微米级生长窗口和纳米级生长窗口内I...
于彤军
冯晓辉
程玉田
吴洁君
贾传宇
张国义
文献传递
Ⅲ族氮化物材料的光学偏振特性研究
半导体照明时21世纪最具发展前景的高技术领域之一,GaN基发光二极管(LED)在特种照明、液晶显示屏、汽车灯和室内照明灯领域具有广泛的应用前景。除了传统的c-面材料和器件研究之外,非极性面(α-面和m-面)GaN基LED...
贾传宇
一种在大尺寸Si衬底上制备高电子迁移率场效应晶体管的方法
本发明提供一种在大尺寸Si衬底上制备高电子迁移率场效应晶体管(HEMT)的方法,尤其涉及一种采用炭纳米管作为周期性介质掩膜,采用选区外延(SAG)方法制备无龟裂、高晶体质量的AlGaN/GaN?HEMT器件方法。在Si衬...
张国义
贾传宇
文献传递
基于外延材料应力控制的GaN厚膜自分离方法
本发明公开了一种基于外延材料应力控制的GaN厚膜自分离方法。本发明包括如下步骤:对衬底材料进行预处理;在衬底上生长外延材料,工艺条件渐变调制,实现外延材料的应力逐渐集中到预定自分离的位置;在外延材料的厚度达到预定自分离的...
张国义
吴洁君
杜彦浩
于彤军
杨志坚
康香宁
贾传宇
孙永健
罗伟科
刘鹏
一种制备LED器件出光结构的方法
本发明提供一种制备LED器件出光结构的方法,属于LED器件的制备技术领域。该方法具体是,在图形的蓝宝石衬底(PSS)上生长GaN外延片,然后使用周长为3~1000微米,且两个最远角距离或最长直径不超过400微米的光斑对P...
孙永健
于彤军
张国义
贾传宇
田朋飞
邓俊静
文献传递
高质量单晶厚膜材料的异质外延生长方法
本发明公开一种高质量单晶厚膜材料的异质外延生长方法。该方法包括如下步骤:对衬底进行预处理;第一阶段,实现应力有效释放的渐变调制——工艺参数从高质量生长条件渐变到应力释放生长条件;第二阶段,实现外延材料质量提高的渐变调制—...
杜彦浩
吴洁君
张国义
于彤军
杨志坚
康香宁
贾传宇
孙永健
罗伟科
刘鹏
文献传递
一种GaN衬底的制备方法
本发明提供了一种GaN衬底的制备方法,属于光电子器件的制备领域。本发明区别于现有技术的核心是:在衬底(如Si,蓝宝石,SiC等)外延生长表面上形成一过渡层,该过渡层为含有碳纳米管的InN、高In组分InGaN材料或GaA...
于彤军
龙浩
张国义
吴洁君
贾传宇
杨志坚
王新强
文献传递
一种高亮度近紫外LED及其外延生长方法
本发明公开了一种高亮度近紫外发光二极管及其外延生长方法。该LED结构结构从下向上依次为:图形化蓝宝石衬底、低温GaN成核层、高温非掺杂GaN缓冲层、n型GaN层、10至20个周期的n‑In<Sub>x1</Sub>Ga<...
贾传宇
于彤军
殷淑仪
张国义
童玉珍
文献传递
硅衬底上III族氮化物外延薄膜的选区生长方法及结构
本发明公开了一种硅衬底上III族氮化物外延薄膜的选区生长方法及结构。本发明采用了碳纳米管阵列作为微米/纳米复合尺寸掩膜,可直接得到高质量的III族氮化物外延薄膜,在较小厚度内得到表面光亮,且高质量、低应力的III族氮化物...
于彤军
冯晓辉
贾传宇
张国义
文献传递
一种高亮度近紫外LED及其制备方法
本发明公开了一种高亮度近紫外发光二极管及其制备方法,属于半导体光电子技术领域。该LED结构结构从下向上依次为:图形化蓝宝石衬底、低温GaN成核层、高温非掺杂GaN缓冲层、n型GaN层、n-In<Sub>x1</Sub>G...
贾传宇
于彤军
殷淑仪
张国义
童玉珍
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