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激光扫描磁控溅射Fe/Si膜直接形成α-FeSi_2被引量：2: 2008年; 用直流磁控溅射方法分别在室温及不同温度的Si(100)衬底上沉积Fe膜,随后采用脉冲激光扫描进行退火,X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征了激光扫描对薄膜结晶性质和表面显微结构的影响。测量结果证实直接形成了Fe-Si化合物系的富硅高温相-αFeSi2,室温沉积样品的结晶性质随激光能量密度的增加而提高;反应沉积样品的结晶性质随衬底温度升高而提高。; 张晋敏谢泉余平张勇肖清泉杨子义梁艳曾武贤; 关键词：磁控溅射显微结构

磁光材料的制备和性能研究: 本文对采用磁控溅射制备FbFeCo薄膜的工艺进行了详细研究，制备了TbFeCo系列薄膜，分析了TbFeCo薄膜的生长机理。首先利用XRD、EDAX对样品结构进行了表征，结果表明Tb的溅射率相对较高，薄膜中Tb...; 余平; 关键词：磁控溅射椭偏光谱; 文献传递

Ag保护层对TbFeCo磁光薄膜光学性质的影响: 2007年; 用直流磁控溅射法制备出Ag/TbFeCo/Si(100)磁光薄膜。利用可变入射角椭圆偏振光谱仪测量了其可见光区的光学常数,给出薄膜介电函数实部和虚部随入射光子能量的变化规律,结果与经典的Drude模型相一致。同时把Ag/Si、Ag/TbFeCo/Si和TbFeCo/Si的光谱进行了比较,结果表明,由于Ag的高反射率,Ag/TbFeCo/Si的光谱更接近Ag。; 余平任雪勇梁艳曾武贤张晋敏; 关键词：椭偏光谱

保护层Ag对Ag/TbFeCo光学性质的影响: 2007年; 磁光记录介质非晶稀土-过渡金属合金TbFeCo薄膜覆盖Ag保护层可减小稀土元素的氧化且能增强其磁光克尔效应。利用直流磁控溅射法制备出Ag/TbFeCo／Si(100)磁光薄膜,利用可变入射角椭圆偏振光谱仪测量了其可见光区的光学常数,给出薄膜介电函数实部和虚部随入射光子能量的变化规律,同时把Ag／Si、Ag／TbFeCo／Si和TbFeCo／Si的光谱进行了比较。实验结果与经典的Drude模型相一致,而且Ag／TbFeCo／Si的光谱更接近Ag。不同厚度Ag/TbFeCo／Si薄膜其光学参数变化趋势相同,且随Ag厚度的增加变化幅度减小。; 余平任雪勇梁艳曾武贤张晋敏; 关键词：磁光薄膜椭偏光谱磁控溅射 AG

磁控溅射制备FeSi膜的性质: 2007年; 本文利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si(100)和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们的适用范围。; 余平张勇肖清泉张晋敏; 关键词：磁控溅射椭偏仪反应溅射

磁控溅射制备薄膜材料: 本文利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si(100)和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜...; 余平张勇张晋敏; 关键词：磁控溅射椭偏仪; 文献传递

Effects of Annealing on Atomic Interdiffusion and Microstructures in Fe/Si Systems被引量：5: 2007年; Pure metal Fe films with thickness of about 100nm were deposited on Si （100） substrates by DC magnetron sputtering. Annealing was subsequently performed in a vacuum furnace in the temperature range of 600-1000℃ for 2h. The samples were characterized by means of Rutherford backscattering （RBS） with 3MeV carbon ions. The RBS data were fitted with SIMNRA 6.0, and the results show the atomic interdiffusion in Fe/Si systems. The microstructures and crystal structures were characterized by scanning electron microscope and X-ray diffrac- tion. The effects of annealing on atomic interdiffusion, silicide formation, and microstructures in Fe/Si systems were analyzed.; 张晋敏谢泉曾武贤梁艳张勇余平田华; 关键词：ANNEALING MICROSTRUCTURE

溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响: 2007年; 利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜，采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪，测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数，测量能量范围为1．5～4．5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影响。实验结果表明，在低能区域，样品的所有光学常数均随压强增加而增加，受制备工艺影响较大。但在高能区域，光学常数随压强的变化相对说来不再明显．; 张勇张晋敏余平田华; 关键词：磁控溅射椭偏光谱光学常数

椭偏仪的原理和应用被引量：19: 2007年; 椭偏术是一种利用线偏振光经样品反射后转变为椭圆偏振光这一性质以获得样品的光学常数的光谱测量方法.椭偏仪主要用来测量薄膜材料或块体材料的光学参数和厚度的仪器.; 余平张晋敏; 关键词：椭偏仪光学参数

磁控溅射真空制膜技术被引量：33: 2007年; 利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si(100)和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;我们还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们的适用范围。; 余平任雪勇肖清泉张晋敏; 关键词：磁控溅射椭偏仪

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余平