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贾克辉

作品数:4 被引量:14H指数:2
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:中国科学院知识创新工程更多>>
相关领域:理学金属学及工艺经济管理电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇经济管理
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇镀膜
  • 2篇减反射膜
  • 2篇光学
  • 2篇光学镀膜
  • 1篇镀膜技术
  • 1篇通信
  • 1篇通信产业
  • 1篇均匀性
  • 1篇光通信
  • 1篇光通信产业
  • 1篇光学薄膜
  • 1篇成膜
  • 1篇成膜工艺
  • 1篇大口径

机构

  • 4篇中国科学院长...
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 4篇贾克辉
  • 2篇高劲松
  • 2篇徐颖
  • 1篇黄建兵
  • 1篇曹健林
  • 1篇陈红

传媒

  • 1篇光机电信息
  • 1篇光子学报
  • 1篇发光学报

年份

  • 3篇2003
  • 1篇2002
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
霍尔源用于光学镀膜被引量:6
2003年
报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标 ,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手 ,研究了使用霍尔源所做的单层TiO2 膜的成膜工艺与质量 研究表明 ,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高 ,更加接近于块状材料 ,膜层结构比传统沉积手段更加致密 ,附着力也很高 同时用此项技术沉积了金属增强反射镜 ,试验结果与理论设计结果相符 。
贾克辉黄建兵徐颖陈红高劲松曹建林
关键词:光学薄膜
等离子体辅助沉积大口径减反射膜
研究了用于辅助镀膜的等离子体源(GIS)的结构原理及性能指标,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手,研究了使用等离子体源所做的单层TiO<,2>膜和单层SiO<,2>膜的成膜工艺与质量.研究表明,使用等离子体源辅助...
贾克辉
关键词:减反射膜均匀性
文献传递
2002年我国光通信产业发展回顾被引量:1
2003年
从近两年通信产业的背景出发 ,概述了我国光通信产业在 2 0 0 2年的发展。我国在这一领域虽取得了一定的成就 ,但也出现了很多问题。本文探讨了其原因 ,并指出作为 2 1世纪的朝阳产业 ,光通信必将迎来其发展的黄金时期。
贾克辉
关键词:光通信产业
等离子辅助镀膜技术被引量:6
2002年
传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积,但由于成膜分子的能量较低,使沉积的薄膜排列密度很低,其性能和块状材料区别很大,已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构。薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料,近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题。本文报道了我国自己研制的等离子体源(GIS)的性能指标、用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量,以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺。
贾克辉徐颖高劲松曹健林
关键词:光学镀膜成膜工艺减反射膜
共1页<1>
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