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范红娜

作品数：5 被引量：4H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

领域

  • 11个电子电信
  • 8个一般工业技术
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主题

  • 11个单晶
  • 11个抛光片
  • 11个晶片
  • 11个锗
  • 10个粗糙度
  • 9个单晶片
  • 9个面粗糙度
  • 9个硅单晶
  • 9个硅片
  • 8个电池
  • 8个抛光
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  • 6个硅单晶片
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  • 4个受体

机构

  • 11个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个河北工学院
  • 1个河北工业大学
  • 1个天津大学
  • 1个中国人民政治...
  • 1个中国电子科技...

资助

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  • 1个博士科研启动...
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  • 1个河北省高等学...
  • 1个河北省教育厅...
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传媒

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地区

  • 9个天津市
  • 2个北京市
共 11 条 记 录，以下是 1-10
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 MEMS 研磨 测厚 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王雄龙
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：研磨 粗糙度 MEMS 锗 厚度变化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩焕鹏
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶炉 晶片 单晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 锗单晶 英寸 硅-硅直接键合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭亚坤
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 稳定性 平坦度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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