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袁志鹏

作品数:19 被引量:19H指数:3
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
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刘训春
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:晶体管 HBT 电子束曝光 显影 GAAS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴德馨
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:ALGAN/GAN HEMT INGAP/GAAS_HBT 欧姆接触 HBT
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘新宇
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 刻蚀 欧姆接触 衬底 ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙海锋
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:INGAP/GAAS_HBT 异质结双极晶体管 INGAP/GAAS ALIGNED 氮化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王润梅
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:异质结双极晶体管 GAAS 自对准 INGAP/GAAS_HBT ICP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
石瑞英
供职机构:四川大学物理科学与技术学院
研究主题:HBT 异质结双极晶体管 光学邻近效应 电子辐照 石墨烯
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
和致经
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:ALGAN/GAN 欧姆接触 HEMT ALGAN/GAN_HEMT 钛
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
白大夫
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:INGAP/GAAS_HBT HBT 线性化器 ALIGNED SHAPED
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑丽萍
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:INGAP/GAAS INGAP/GAAS_HBT GAAS 自对准 异质结双极晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗明雄
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:金属 等离子体刻蚀 高电子迁移率晶体管 GAAS 半导体集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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