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李平

作品数：11 被引量：23H指数：3
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
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共 22 条 记 录，以下是 1-10
邓光华
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：PTSI CCD 肖特基势垒 红外CCD 线列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊平
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD PTSI CMOS图像传感器 肖特基势垒 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
易平
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD PTSI 红外CCD 肖特基势垒 线列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐遵烈
供职机构：中国电子科技集团公司第44研究所
研究主题：CCD 红外图像 非均匀性校正 可见光 非均匀性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张坤
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 CCD图像传感器 CCD 放大器 仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘俊刚
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：光致发光 电荷耦合器件 多孔硅 发光 CCD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪朝敏
供职机构：中国电子科技集团公司第44研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 像元 内线 信号
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈捷
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 本征吸杂 电荷耦合器件 低温退火 栅介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许宏
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 本征吸杂 暗电流密度 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD TDI 高分辨率 可见光CCD 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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