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文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 4篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 4篇表面形貌
  • 2篇显微硬度
  • 2篇化学沉积
  • 2篇化学镀
  • 2篇NI
  • 2篇P
  • 1篇电镀
  • 1篇镀速
  • 1篇镀液
  • 1篇正交
  • 1篇正交实验
  • 1篇脉冲电镀
  • 1篇耐腐蚀
  • 1篇耐腐蚀性
  • 1篇耐腐蚀性能
  • 1篇机械搅拌
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇腐蚀性
  • 1篇NI-P化学...

机构

  • 6篇东北石油大学
  • 6篇大庆油田有限...

作者

  • 6篇马春华
  • 5篇王勇
  • 3篇楚殿庆
  • 3篇高杨
  • 1篇马春阳
  • 1篇杨蕊

传媒

  • 6篇兵器材料科学...

年份

  • 4篇2013
  • 2篇2012
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的工艺研究被引量:3
2012年
为改善金属零件的耐磨性能,用磁力搅拌-化学沉积法在45钢表面制备Ni-P-SiC镀层,利用正交实验对其制备工艺参数进行优化。结果表明,SiC粒子的添加量、搅拌速度和镀液pH值对磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的磨损量有较大影响。正交实验分析可知,磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的最佳工艺参数为:SiC的质量浓度10 g/L,搅拌速度300 r/min,pH值5.5。
王勇高杨马春华楚殿庆
关键词:工艺参数正交实验
SiC粒度对磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的影响被引量:1
2013年
用磁力搅拌-化学沉积方法在45钢表面制备Ni-P-SiC镀层,研究镀液中SiC颗粒粒度对镀层表面形貌、显微硬度及耐磨性能的影响。结果表明:随着SiC颗粒的粒度逐渐减小,镀层的平整度和致密性增加,SiC颗粒团聚现象越来越不明显;当SiC粒度为0.2μm,Ni-P-SiC镀层表面均匀分散着微小的SiC颗粒,镀层平整、致密,平均显微硬度为853.4HV;当SiC粒度为1,2μm,最大硬度差分别为25.8HV和40.5HV。随着磨损时间的增加,含有SiC粒度0.2μm的Ni-P-SiC镀层的磨损量缓慢增加,而SiC粒度为2,1μm的Ni-P-SiC镀层的磨损量急剧增加。
王勇马春华楚殿庆
关键词:表面形貌
热处理对Ni-SiC镀层表面形貌和性能的影响
2013年
采用直流电镀、脉冲电镀和超声波-脉冲电镀方法制备Ni-SiC镀层,研究热处理温度对Ni-SiC镀层表面形貌、显微硬度以及电化学腐蚀性能的影响。结果表明:经过200℃的热处理后,超声波-脉冲电镀法获得的镀层,其金属晶粒最细密,镀层表面更加光滑;热处理温度在300℃,直流电镀法、脉冲电镀法和超声波-脉冲电镀法制备的镀层显微硬度达到最大值,分别为884HV,902HV,915HV;超声波-脉冲电镀法制备的Ni-SiC镀层耐腐蚀性能最好,而直流电镀法制备的镀层耐腐蚀性能最差。
杨蕊马春华
关键词:表面形貌显微硬度耐腐蚀性能
脉冲电镀Ni-SiC镀层及其表征被引量:1
2013年
采用脉冲电镀的方法制得Ni-SiC镀层,研究电参数和热处理温度对Ni-SiC镀层表面形貌、显微硬度及结合力的影响。结果表明:在适宜的脉冲电流作用下,镀层组织得到进一步细化,镀层中的SiC颗粒含量增加,从而获得细密、平整的镀层;热处理温度对Ni-SiC镀层的显微硬度和结合力有较大影响,当热处理温度为300℃,脉冲电镀制备的3种镀层显微硬度达到最大值,分别为880HV,903HV,896HV;镀层的结合力达到最大值,分别为76,78,77 N。
王勇高杨马春华
关键词:脉冲电镀表面形貌显微硬度
超声波-机械搅拌-化学镀Ni-P-SiC镀层表面形貌研究被引量:4
2012年
采用超声波和机械搅拌相结合方法,在45钢表面化学镀Ni-P-SiC层。利用扫描电镜对Ni-P-SiC镀层进行表面形貌分析,结果表明:采用机械搅拌-化学镀,当搅拌速率为300 r/min,Ni-P-SiC镀层表面变得较为光滑、平整,胞状组织也细小,表面致密;采用超声波搅拌-化学镀,当超声波功率为200 W,SiC颗粒在镀层中的分散性较好,镀层较致密;采用超声波-机械搅拌-化学镀,施加超声波功率为200 W和机械搅拌速率为300 r/min的复合搅拌作用,可获得表面光滑、平整,且孔隙率和胞状组织细小的Ni-P-SiC镀层。
王勇马春阳马春华楚殿庆
关键词:超声波机械搅拌表面形貌
镀液组分含量对Ni-P化学镀镀速的影响被引量:2
2013年
利用化学镀制得Ni-P化学镀层,研究镀液组分含量对Ni-P化学镀镀速的影响规律。结果表明:Ni-P化学镀镀速随主盐NiSO4·6H2O、还原剂NaH2PO2·H2O、络合剂C6H8O7·H2O及缓冲剂CH4COONa含量的增加而先增加后降低;当NiSO4·6H2O,NaH2PO2·H2O和C6H8O7·H2O的质量浓度为30,20,10g/L,Ni-P化学镀镀速的最大值为15.3,19.1,18.4μm/h;当CH4COONa的质量浓度16-20g/L,Ni-P化学镀的镀速变化不大,平均镀速为15.6μm/h。
王勇高杨马春华韩富和王振生
关键词:NI-P化学镀镀速
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