徐林
- 作品数：8 被引量：6H指数：2
- 供职机构：贵州师范学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划贵州省科技攻关计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>
- 基于Mg2Si薄膜的异质结研究现状
- 2016年
- 1.前言在半导体材料的应用范围越来越广的同时,由于其含有大量的有毒有害物质而被广泛关注,这时作为环境友好型材料的Mg2Si薄膜就应运而生了。Mg2Si由于其储量丰富且廉价,还具备了耐腐蚀、无污染、抗氧化、无毒无害、能与传统的Si工艺兼容等优势,被广而深地分析研究,经过了近几年的努力研究,不断地有新的研究成果出现,如在其光学特性和电子结构的计算领域。因此,对Mg2Si薄膜异质结等内容进行研究。
- 念刘飞余宏周筑文徐林谢泉
- 关键词：异质结MG2SI光学特性热蒸发法电子结构电池材料
- 混合溶剂诱导PS膜的去润湿过程被引量：4
- 2011年
- 采用光学显微镜及原子力显微镜等实验手段研究了聚苯乙烯(PS)膜在水和丙酮混合溶剂诱导下的去润湿过程.实验发现,在亲水基底上,随着丙酮含量的减少,在整个去润湿过程中孔半径与时间呈e指数关系[R～exp(t/τ)],然后呈线性关系(R～t),最后为R～t0.76,并且孔增长机理从成核增长机理转变为取代机理.在疏水基底上,随着丙酮含量的减少,在整个去润湿过程中孔半径与时间呈e指数关系[R～exp(t/τ)],然后呈线性关系(R～t),最后为R～t0.72,孔增长的机理未发生变化.对相同膜厚的高分子薄膜,无论在亲水基底还是疏水基底上,高分子薄膜的滑移效应随着丙酮含量的减少而变化,且在疏水基底上丙酮含量的减少对孔增长动力学的影响比在亲水基底上的影响更大.
- 童淑元徐林石彤非安立佳
- 高分子混合薄膜在溶剂中独特的去润湿行为
- 高分子薄膜材料已经在光电材料、生物纳米材料、纳米影像术及传感器等新领域中有着广泛地应用。高分子薄膜的聚集态结构和表面形貌是影响其应用的重要因素。高分子薄膜去润湿过程能提供一个简单、有效且条件温和的制备高分子有序阵列的方法...
- 徐林
- 关键词：高分子薄膜
- 文献传递
- 蒸发时间对Mg_2Si薄膜的影响
- 2016年
- 本文旨在研究Mg2Si半导体薄膜的制备过程中,蒸发时间对Mg2Si薄膜的影响。通过采用电阻式热蒸发及退火工艺的制备方法制备了Mg2Si半导体薄膜。在低真空（10-1~10-2Pa）,400℃热处理4h条件下,研究在80A蒸发电流时,不同蒸发时间对Mg2Si薄膜的影响。并采用扫描电镜手段对实验形成的Mg2Si薄膜的结构进行了表征。最后得出结论：低真空（10-1~10-2Pa）,400℃热处理4h条件下,蒸发时间为16min是制备高质量Mg2Si半导体薄膜的最佳蒸发时间。
- 程佳俊余宏周筑文徐林
- 关键词：热蒸发
- 一种大面积表面增强拉曼散射基底的制备方法
- 一种大面积表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于：以聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯混合薄膜在丁酮/丙酮/水（体积比为7/3/15）的混合溶剂中去润湿来制备粒径为78纳米，间距为80纳米，均匀分布的高分子纳米结构，以高分子...
- 徐林张欢欢赵雪宇陈正件张贵鑫牟红兰钱定丹
- 文献传递
- 非溶剂诱导聚苯乙烯超薄膜去润湿过程中不同有序表面形貌的形成被引量：3
- 2016年
- 利用原子力显微镜研究了带有自然氧化层硅基底上聚苯乙烯薄膜在不同非溶剂诱导下的去润湿过程.研究发现,非溶剂是通过渗透取代机理诱导高分子薄膜发生去润湿.薄膜的形貌取决于成孔过程与孔增长过程的相对速度.当聚苯乙烯(PS)薄膜厚度为15 nm时,随着溶剂烷基链的增长,成孔数显著降低;然而孔开始合并时孔径明显地增加.当PS薄膜厚度增加到25 nm时,随着溶剂烷基链的增长,成孔数略有降低,薄膜形貌形成长程有序的双连续的结构.当PS膜厚为35 nm时,与其它2个膜厚相比,成孔数大幅下降.此外,温度和分子量能进一步降低去润湿过程中的成孔数,从而形成分形结构形貌.
- 徐林张欢欢石彤非
- 关键词：高分子薄膜表面形貌
- 一种高分子纳米碗结构的制备方法
- 本发明公开了一种高分子纳米碗结构的制备方法，通过混合液的制备、硅片的处理、薄膜的制备、薄膜的干燥、去润湿、刻蚀等步骤，以聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯混合薄膜在丁酮/丙酮/水（体积比为7/3/15）的混合溶剂中去润湿来制备粒...
- 徐林赵雪宇陈正件张欢欢
- 文献传递
- 一种大面积表面增强拉曼散射基底的制备方法
- 一种大面积表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于：以聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯混合薄膜在丁酮/丙酮/水（体积比为7/3/15）的混合溶剂中去润湿来制备粒径为78纳米，间距为80纳米，均匀分布的高分子纳米结构，以高分子...
- 徐林张欢欢赵雪宇陈正件张贵鑫牟红兰钱定丹
- 文献传递
