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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 4篇单粒子
  • 3篇单粒子效应
  • 3篇偏置
  • 2篇自偏置
  • 2篇PLL
  • 2篇表决
  • 2篇表决器
  • 1篇单粒子翻转
  • 1篇质子
  • 1篇中能质子
  • 1篇晶体管
  • 1篇FD-SOI
  • 1篇LET
  • 1篇触发器

机构

  • 4篇中国电子科技...
  • 1篇西北核技术研...

作者

  • 4篇陈瑶
  • 3篇周昕杰
  • 2篇陈嘉鹏
  • 2篇潘滨
  • 2篇张国贤
  • 1篇周晓彬
  • 1篇姚进

传媒

  • 2篇电子与封装

年份

  • 1篇2023
  • 2篇2019
  • 1篇2016
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
一种抗单粒子辐射的自偏置PLL加固结构
本发明涉及一种抗单粒子辐射的自偏置PLL加固结构,该自偏置PLL加固结构是通过判别非加固自偏置PLL中单粒子效应对V<Sub>BACK</Sub>信号的影响,对单粒子效应敏感的自偏置产生电路进行加固,得到能够抗单粒子效应...
周昕杰陈嘉鹏潘滨张国贤陈瑶
文献传递
28 nm工艺触发器中能质子单粒子效应研究
2023年
基于采取不同加固措施的28 nm体硅CMOS工艺的触发器链,开展了中能质子对纳米级电路单粒子翻转(SEU)效应影响的研究。选取20 MeV、40 MeV、60 MeV以及100 MeV质子对电路进行辐照,得到相关的SEU截面,结果显示,随着入射质子能量的增加,SEU截面增加,并在60 MeV质子能量点附近达到饱和,翻转截面接近8×10^(-14)cm^(-2)/bit。对采取了不同加固方法的触发器链的试验数据进行分析对比,可以看到,单独的版图加固措施只能稍微降低翻转率;DICE结构可以将翻转截面降低一个数量级,电路面积增加一倍左右;时间冗余延迟+DICE的方法基本可以使电路不发生翻转,但电路面积大大增加且造成一定的延迟。
高熠陈瑶吕伟赵铭彤王茂成
关键词:单粒子翻转中能质子触发器
一种抗单粒子辐射的自偏置PLL加固结构
本发明涉及一种抗单粒子辐射的自偏置PLL加固结构,该自偏置PLL加固结构是通过判别非加固自偏置PLL中单粒子效应对V<Sub>BACK</Sub>信号的影响,对单粒子效应敏感的自偏置产生电路进行加固,得到能够抗单粒子效应...
周昕杰陈嘉鹏潘滨张国贤陈瑶
0.13μm全耗尽绝缘体上硅晶体管单粒子效应仿真研究被引量:2
2019年
利用计算机辅助设计Silvaco TCAD仿真工具,研究了0.13μm全耗尽绝缘体上硅(FD-SOI)晶体管单粒子瞬态效应,分析了不同线性能量转移(LET)、单粒子入射位置和工作偏置状态对单粒子瞬态的影响。结果表明,LET值的增加会影响沟道电流宽度,加大单粒子瞬态峰值及脉冲宽度。受入射位置的影响,由于栅极中央收集的电荷最多,FD-SOI器件的栅极中央附近区域单粒子瞬态效应最敏感。单粒子瞬态与器件工作偏置状态有很强的相关性,器件处于不同工作偏置状态下,关态偏置受单粒子效应影响最大,开态偏置具有最小的瞬态电流峰值和脉宽。
花正勇马艺珂殷亚楠周昕杰陈瑶姚进周晓彬
关键词:FD-SOI单粒子LET偏置
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