丛家铭
- 作品数：4 被引量：3H指数：1
- 供职机构：西安工业大学光电工程学院更多>>
- 发文基金：中国科学院知识创新工程重要方向项目上海市“科技创新行动计划”中国科学院知识创新工程更多>>
- 相关领域：理学电气工程电子电信更多>>
- 不同柔性衬底上CdS薄膜退火前后的性能比较被引量：2
- 2014年
- 采用磁控溅射法分别在柔性PI衬底、柔性AZO衬底和柔性ITO衬底上制备CdS薄膜,并在干燥空气中以CdCl2为源380℃退火,分别研究了不同柔性衬底及退火工艺对CdS薄膜形貌、结构和光学性能的影响。研究结果表明:退火前在不同柔性衬底上的CdS薄膜形貌依赖于衬底类型,退火后CdS薄膜的晶粒再结晶,晶粒度增大明显,且不再依赖于衬底类型。不同柔性衬底上CdS薄膜均为立方相和六角相的混相结构,退火后,六角相比例增大,薄膜的结晶质量提高。透过率退火后改善明显,其中,在柔性AZO衬底上的CdS薄膜透过率超过80%。
- 丛家铭潘永强邬云华张传军王善力
- 关键词：柔性衬底CDS薄膜磁控溅射退火处理
- 柔性CdTe薄膜太阳能电池中CdS的制备与表征
- 柔性碲化镉薄膜太阳能电池是一种IIB-VIA族化合物半导体薄膜太阳能电池,理论效率高达28-29%,其中硫化镉薄膜作为电池的窗口材料,具有很高的透过率、良好的光电导以及合适的费米能级,非常具有研究的潜力。 本课题主要进行...
- 丛家铭
- 关键词：聚酰亚胺CDS薄膜磁控溅射法
- 文献传递
- 不同方法及衬底类型对CdS多晶薄膜性能的影响被引量：1
- 2014年
- 采用化学水浴法和磁控溅射法分别在AZO、FTO、ITO透明导电玻璃衬底上制备了CdS薄膜,利用扫描电镜、XRD以及透射光谱等测试手段,研究了两种制备方法对不同衬底生长CdS薄膜形貌、结构和光学性能的影响.研究结果表明,不同方法制备的CdS薄膜表面形貌均依赖于衬底的类型,水浴法制备的CdS薄膜晶粒度较大,表面相对粗糙.不同方法制备的CdS薄膜均为立方相和六角相的混相结构,溅射法制备的多晶薄膜衍射峰清晰、尖锐,结晶性较好.水浴法制备的CdS薄膜透过率整体低于溅射法,但在短波处优势明显.
- 丛家铭潘永强邬云华张传军王善力
- 关键词：CDS薄膜磁控溅射TCO
- CdS薄膜的可见和近红外光谱性能研究
- 2013年
- 在康宁7059玻璃衬底上采用磁控溅射、化学水浴和近空间升华法制备CdS薄膜,在FTO、ITO、AZO衬底上采用磁控溅射法制备CdS薄膜。分别对两组CdS薄膜的形貌、结构和光学性能进行了研究,结果表明:采用不同工艺和衬底条件制备的CdS薄膜具有不同的形貌和结构,并表现出不同的光学性能。对于不同的制备技术,化学水浴法制备的CdS薄膜在520～820nm范围的光谱平均透过率最高,光学带隙最大为2.418eV,磁控溅射法制备的CdS薄膜在820～1200nm和520～1200nm范围的光谱平均透过率最高。对于不同的衬底条件,在FTO衬底上磁控溅射制备的CdS薄膜在820～1200nm和520～1200nm范围的光谱平均透过率最高。
- 张传军丛家铭邬云骅曹鸿王善力褚君浩
- 关键词：CDS薄膜
