2024年11月15日
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高建峰
作品数:
113
被引量:2
H指数:1
供职机构:
中国科学院微电子研究所
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发文基金:
国家科技重大专项
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
一般工业技术
理学
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合作作者
李俊峰
中国科学院微电子研究所
李俊杰
中国科学院微电子研究所
杨涛
中国科学院微电子研究所
王文武
中国科学院微电子研究所
罗军
中国科学院微电子研究所
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作者
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高建峰
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李俊峰
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李俊杰
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杨涛
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王文武
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3篇
2016
2篇
2014
共
113
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一种氧化钒薄膜的制备方法
本发明提出了一种氧化钒薄膜的制备方法,其特征在于,包括:提供衬底;在所述衬底上方沉积介质层;对所述衬底进行预热;采用磁控溅射法,在所述介质层上形成氧化钒薄膜种子层,形成所述氧化钒薄膜种子层的工艺条件如下:射频溅射功率为5...
高建峰
李俊峰
刘卫兵
赵超
王文武
文献传递
一种电阻随机存储器及其制备方法
本发明提供了一种电阻随机存储器的制备方法,提供衬底;在衬底上形成电极过孔,至少部分电极过孔为底电极;沉积介质层,并在所述介质层中、电极过孔之上形成大马士革通孔;在底电极之上的通孔内依次形成阻变材料层及顶电极。利用本发明的...
高建峰
赵超
李俊峰
半导体器件的制造方法
本发明公开了一种半导体器件的制造方法,包括:提供半导体衬底,所述衬底上具有去除伪栅后形成的开口;在开口中填充顶层金属层,顶层金属层具有压应力;对PMOS器件区域的顶层金属层,进行非晶化注入。本发明有利于提高NMOS器件的...
王桂磊
刘金彪
高建峰
李俊峰
赵超
文献传递
一种改善钨金属栅均匀性的方法及晶体管的制备方法
本发明涉及一种改善钨金属栅均匀性的方法及晶体管的制备方法,以获得厚度更加一致的钨金属栅结构,提高器件的电学稳定性。一种改善钨金属栅均匀性的方法,其包括下列步骤:提供半导体衬底,所述半导体衬底的表面设有绝缘层,所述绝缘层内...
杨涛
刘浩琦
张月
卢一泓
高建峰
李俊峰
罗军
一种半导体器件及其制造方法
本申请实施例提供了一种半导体器件及其制造方法,可以在衬底上沉积形成牺牲层,利用Bosch工艺对牺牲层进行刻蚀形成电容孔,电容孔的侧壁在纵向上呈凹凸交替变化,在电容孔内依次形成底电极层、介质层和顶电极层,由于Bosch工艺...
高建峰
李俊杰
周娜
刘卫兵
杨涛
李俊峰
文献传递
集成电路设备和半导体器件的制备方法
本发明提供一种集成电路设备和半导体器件的制备方法,集成电路设备包括:机体、第一真空泵、第一机械手、第一隔离门和多个加工机构;机体包括机壳、装卸腔室、传输腔室和多个真空腔室,多个真空腔室内均设置有加工机构,加工机构与机壳连...
李俊杰
刘恩序
周娜
高建峰
李俊峰
李永亮
罗军
王文武
位线两侧气隙及半导体结构的制造方法
本申请涉及半导体制造领域,具体公开了一种位线两侧气隙及半导体装置的制造方法,包括以下步骤:在半导体衬底上形成多条位线;在每条位线的两侧形成上部开口的气隙;采用物理气相沉积工艺形成盖帽层,以封闭所述上部开口。本申请采用台阶...
高建峰
刘卫兵
杨涛
李俊峰
文献传递
高吸收热电堆及其制作方法
一种高吸收热电堆及其制作方法,所述热电堆包括红外吸收层;其中,所述红外吸收层包括旋涂碳材质。本发明首次将旋涂碳材质应用到热电堆作为红外吸收层材料,利用该旋涂碳材质增强红外吸收层的吸光效果,提高热电堆的红外吸收性能。
周娜
毛海央
李俊杰
高建峰
杨涛
李俊峰
王文武
陈大鹏
一种半导体结构的制备方法及半导体结构
本发明提供了一种半导体结构的制备方法及半导体结构,该半导体结构的制备方法通过在第二硅衬底上依次生长高低温Ge层、GeSi反向渐变缓冲层和完全弛豫的GeSi应变弛豫层之后,将第二硅衬底上的GeSi应变弛豫层键合在第一硅衬底...
孔真真
张毅文
刘靖雄
任宇辉
王桂磊
李俊峰
高建峰
周娜
罗军
一种STT-MRAM存储器单元及其制备方法
本发明公开了一种STT‑MRAM存储器单元及其制备方法,属于微电子制造技术领域,解决现有技术中磁性隧道结TMR(隧穿磁阻)低、MTJ刻蚀过程对STT‑MRAM的TMR性能影响大的问题。本发明的STT‑MRAM存储器单元,...
高建峰
刘卫兵
李俊杰
李俊峰
王文武
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