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一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器: 一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器，它包括压电陶瓷基体及压电陶瓷基体表面电极，其特殊之处是，所述的压电陶瓷基体表面电极为多电极分区，分区后各电极区间各自独立或各电极互连，各电极之间的间隔距离小于压电陶瓷基体厚度，且各分...; 翟科何勍任奕

兆声化学机械复合抛光及其抛光均匀性的实现被引量：1: 2017年; 在匹配层结构压电换能器的基础上,通过对兆声压电振子的振动模式进行控制,在横向尺度上实现了兆声抛光工具头振动振幅的均匀化,进而开展了有/无兆声作用下硅片的化学机械抛光实验.抛光后,无兆声作用硅片的表面粗糙度Ra均值达到0.072μm,兆声作用硅片的表面粗糙度Ra均值达到0.020μm.测量了被抛光硅片的平面度,相对于无兆声作用硅片的平面度的PV值28μm,兆声作用硅片PV值显著下降,为21μm.可见,相对于传统化学机械抛光,兆声化学机械复合抛光能够有效地改善原有抛光工艺,提高硅片抛光表面质量,实现其抛光均匀性.; 翟科任奕李亮何勍; 关键词：化学机械抛光硅片均匀性

一种兆赫频超声抛光振子的设计与研究被引量：2: 2018年; 在声波透射与折射基本理论的基础上,设计制作了匹配层压电换能器结构的兆声抛光振子,提高了兆赫频超声抛光工具的声能量辐射效率。此外,通过对兆声压电振子的振动模式进行控制,消除了高频圆片型压电振子本身存在的强烈的耦合振动效应。在制作完成兆声抛光振子的基础上,对抛光振子工作端的振动振幅进行了测试,在横向尺度上满足了兆声抛光工具头振动振幅均匀化的要求。实现了一种用于硅片化学机械抛光的兆声抛光振子。为大尺寸硅片的化学机械抛光工艺提供了可借鉴的附加技术手段。; 何勍翟科李亮任奕; 关键词：化学机械抛光声传播压电振子

一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器: 一种均匀兆声作用的基片处理压电换能器，它包括压电陶瓷基体及压电陶瓷基体表面电极，其特殊之处是，所述的压电陶瓷基体表面电极为多电极分区，分区后各电极区间各自独立或各电极互连，各电极之间的间隔距离小于压电陶瓷基体厚度，且各分...; 翟科何勍任奕; 文献传递

超声抛光振子的振动模式及其对抛光液的影响研究: 兆赫频超声辅助抛光技术是一种有效改善抛光均匀性、提高硅片抛光质量的新型表面超精细加工技术。本文以兆声辅助化学机械抛光方法为基础,探究了超声抛光振子的振动特性以及振动作用下抛光液在抛光区域内的流动特性。首先,利用压电学与弹...; 任奕; 关键词：化学机械抛光抛光液流动特性; 文献传递

一种室内装修用全方位移动式升降辅助装置: 一种室内装修用全方位移动式升降辅助装置，涉及一种装修用装置，所述装置包括底盘机构、剪叉式升降台机构、控制箱，麦克纳姆轮通过联轴器与底盘机构连接；底盘通过剪式升降台机构托起支撑板；控制箱装于底盘上顶板和底盘前下板之间；底盘...; 王云亮王晓磊赵文川任奕; 文献传递

液固耦合传递兆声振动复合化学机械抛光研究被引量：3: 2016年; 采用液固耦合形式的抛光工具头,实现了兆声作用的柔性灵活附加,计算了多层中间介质情况下的声能量透射率,在此基础上开展了兆声作用下的硅片化学机械抛光实验研究.结果表明,较之传统抛光,在兆声复合抛光作用下硅片的表面质量得到了明显的改善.其中,研磨硅片的粗抛光过程,兆声复合抛光硅片的表面粗糙度Ra均值由0.330 4μm下降到0.075 0μm,传统抛光硅片的Ra均值则由0.310 9μm下降到0.090 3μm;抛光硅片的二次精抛过程,兆声复合抛光硅片的Ra均值降至0.495 nm,传统抛光硅片Ra均值达到0.560 nm.; 翟科任奕何勍; 关键词：声传播硅片化学机械抛光

兆声辅助化学机械抛光中振动对抛光液流动的影响被引量：1: 2019年; 为了将兆声引入化学机械抛光,进一步提高抛光效率,深入研究了化学机械抛光中兆声对抛光液流动的影响。首先测试抛光头工作表面的轴向振幅,再观察兆声致抛光液流动现象,最后对抛光头中声场和兆声致流场进行理论分析。利用流体力学理论分析讨论兆声致抛光液流动的机理。测试结果表明:抛光头工作表面振动频率为1. 7 MHz,振幅沿径向减小并伴有振荡,中心处最大振幅接近70 nm,这与计算结果基本一致。兆声致抛光液流动实验表明:兆声能有效激励抛光液使其从抛光垫微孔中涌出,涌出量逐渐增大,但流量逐渐减小,渐近至零。这一结果可由兆声致流场给出解释:兆声振子表面轴向振幅被贝赛尔函数调制,这种振动沿轴向传至抛光液,产生随坐标和时间变化的流场;流量随时间的涨落和不同区域间的流量差,造成抛光液在抛光垫微孔间交互流动。可见,这种兆声致抛光液流动,能有效提高抛光液利用率、改善抛光效果。; 李亮李亮任奕何勍; 关键词：振子化学机械抛光抛光液硅片粗糙度

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任奕