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张贤红

作品数：8 被引量：0H指数：0
供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 8篇中文专利

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 3篇填充层
  • 3篇抛光
  • 3篇光学
  • 2篇导轨
  • 2篇锁紧
  • 2篇锁紧螺母
  • 2篇同心度
  • 2篇抛光工艺
  • 2篇抛光速率
  • 2篇千分表
  • 2篇装夹
  • 2篇离轴
  • 2篇螺母
  • 2篇面形
  • 2篇焦距
  • 2篇工件
  • 2篇反射镜
  • 2篇高温
  • 2篇高温条件
  • 1篇研磨

机构

  • 8篇成都精密光学...

作者

  • 8篇鄢定尧
  • 8篇朱衡
  • 8篇鲍振军
  • 8篇马平
  • 8篇张贤红
  • 8篇蔡红梅
  • 5篇周衡
  • 5篇李智钢
  • 3篇赵恒
  • 3篇胡江川
  • 3篇高胥华
  • 3篇何曼泽
  • 3篇周佩璠
  • 3篇黄颖
  • 3篇杨佳
  • 3篇周恒
  • 3篇樊飞
  • 3篇胡庆

年份

  • 1篇2018
  • 3篇2017
  • 2篇2016
  • 2篇2015
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
一种抛光机
本申请公开了一种抛光机，包括气缸、移动导轨、抛光模基座、底座、抛光模和填充层。所述抛光模粘附在所述抛光模基座上的、表面面积与抛光器件表面面积大小相同、且与所述抛光器件表面贴合；所述填充层为高于一温度时呈液态、常温下成固态...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
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一种抛光工艺
本申请公开了一种抛光工艺，包括：在高温条件下，将抛光模与抛光器件表面压合，使抛光模完全复制抛光器件表面形状，然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层，加压固定后，抛光模与抛光模基座粘结，待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
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光学球罩同心度检测装置
本发明公开了一种光学球罩同心度检测装置，属于光学元件检测技术领域。它包括底板、工件架、定位块、上千分表、下千分表和立柱，工件架上通过定位轴和锁紧螺母连接有定位块，定位块上设有弧形定位面，定位块经压紧螺栓连接有压紧块，工件...
鲍振军马平鄢定尧朱衡蔡红梅李智钢张贤红周衡
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光学球罩同心度检测装置
本实用新型公开了一种光学球罩同心度检测装置，属于光学元件检测技术领域。它包括底板、工件架、定位块、上千分表、下千分表和立柱，工件架上通过定位轴和锁紧螺母连接有定位块，定位块上设有弧形定位面，定位块经压紧螺栓连接有压紧块，...
鲍振军马平鄢定尧朱衡蔡红梅李智钢张贤红周衡
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离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
本发明公开了一种离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置，属于光学技术领域。它包括底座、转盘，弧形导轨、调节螺栓和支架，转盘置于底座的一端，弧形导轨固定于底座的另一端，其弧线与转盘同圆心，调节螺栓经螺栓座与底座连接，支架两...
鲍振军朱衡蔡红梅李智钢鄢定尧马平刘杰张贤红周衡
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离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
本实用新型公开了一种离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置，属于光学技术领域。它包括底座、转盘，弧形导轨、调节螺栓和支架，转盘置于底座的一端，弧形导轨固定于底座的另一端，其弧线与转盘同圆心，调节螺栓经螺栓座与底座连接，支...
鲍振军朱衡蔡红梅李智钢鄢定尧马平刘杰张贤红周衡
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一种抛光工艺
本申请公开了一种抛光工艺，包括：在高温条件下，将抛光模与抛光器件表面压合，使抛光模完全复制抛光器件表面形状，然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层，加压固定后，抛光模与抛光模基座粘结，待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
一种高陡度光学元件研磨抛光装置和加工方法
本发明公开了一种用于高陡度光学元件进行研磨抛光的装置和相应的加工方法，涉及光学元件加工领域，该装置包括连接块（8）、第一驱动部、加工部、第二驱动部、支撑架（2）、竖向导轨（5）、竖向滑块（6）、横向导轨（13）、横向滑块...
鲍振军朱衡崔建朋李智钢鄢定尧马平蔡红梅吴迪龙张贤红周衡
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