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蔡红梅

作品数：21 被引量：11H指数：2
供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划NSAF联合基金更多>>
相关领域：文化科学金属学及工艺机械工程理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 18篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇文化科学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 12篇光学
  • 10篇抛光
  • 6篇光学元件
  • 5篇离轴
  • 4篇面形
  • 3篇调节机构
  • 3篇填充层
  • 3篇非球面
  • 3篇非球面光学
  • 2篇导轨
  • 2篇研磨
  • 2篇声波
  • 2篇时间响应特性
  • 2篇锁紧
  • 2篇锁紧螺母
  • 2篇套圈
  • 2篇同心度
  • 2篇抛光粉
  • 2篇抛光工艺
  • 2篇抛光机

机构

  • 21篇成都精密光学...

作者

  • 21篇蔡红梅
  • 19篇鄢定尧
  • 18篇鲍振军
  • 17篇朱衡
  • 14篇马平
  • 11篇李智钢
  • 9篇赵恒
  • 8篇何曼泽
  • 8篇周佩璠
  • 8篇张贤红
  • 8篇周衡
  • 6篇胡江川
  • 6篇黄颖
  • 5篇高胥华
  • 5篇胡庆
  • 5篇黄金勇
  • 3篇樊非
  • 3篇邱服民
  • 3篇杨佳
  • 3篇周恒

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇红外与激光工...

年份

  • 1篇2021
  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 3篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 3篇2014
  • 3篇2011
共 21 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
本发明公开了一种离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置，属于光学技术领域。它包括底座、转盘，弧形导轨、调节螺栓和支架，转盘置于底座的一端，弧形导轨固定于底座的另一端，其弧线与转盘同圆心，调节螺栓经螺栓座与底座连接，支架两...
鲍振军朱衡蔡红梅李智钢鄢定尧马平刘杰张贤红周衡
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离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
本实用新型公开了一种离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置，属于光学技术领域。它包括底座、转盘，弧形导轨、调节螺栓和支架，转盘置于底座的一端，弧形导轨固定于底座的另一端，其弧线与转盘同圆心，调节螺栓经螺栓座与底座连接，支...
鲍振军朱衡蔡红梅李智钢鄢定尧马平刘杰张贤红周衡
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环摆抛双面抛光机
本发明公开了一种环摆抛双面抛光机，属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂，套圈与主动轮、限位轮外切，还包括辅机座和偏心轮，上盘的上端经主臂与辅机座连接，上盘上设有辅臂，辅臂外端与偏心轮连接，偏心轮...
杨李茗鄢定尧何曼泽刘民才王琳欧光亮周佩璠刘义彬刘夏来蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭邱服民赵春茁
离轴非球面光学加工装置
本实用新型公开了一种离轴非球面光学加工装置，属于光学元件加工技术领域。它包括加工平台、变频电机、驱动轴和摆动轴；驱动轴依次与摆幅调节机构、驱动臂连接；摆动轴上设有摆臂座；摆臂座上设有摆臂；驱动臂经关节轴承与连杆连接，连杆...
马平鄢定尧鲍振军蔡红梅朱衡樊非何曼泽赵恒周佩璠黄金勇黄颖
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一种平面光学元件及其加工方法
本申请公开了一种平面光学元件及其加工方法，包括研磨待加工平面光学元件的第一表面，使研磨后第一表面的反射面形误差数据小于第一面形误差阈值，得到第一平面光学元件；抛光研磨后第一表面，使抛光后第一表面的反射面形误差数据小于第二...
朱衡吴迪龙鲍振军周衡李智钢蔡红梅鄢定尧
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离轴非球面光学加工装置
本发明公开了一种离轴非球面光学加工装置，属于光学元件加工技术领域。它包括加工平台、变频电机、驱动轴和摆动轴；驱动轴依次与摆幅调节机构、驱动臂连接；摆动轴上设有摆臂座；摆臂座上设有摆臂；驱动臂经关节轴承与连杆连接，连杆与摆...
马平鄢定尧鲍振军蔡红梅朱衡樊非何曼泽赵恒周佩璠黄金勇黄颖
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光学球罩同心度检测装置
本实用新型公开了一种光学球罩同心度检测装置，属于光学元件检测技术领域。它包括底板、工件架、定位块、上千分表、下千分表和立柱，工件架上通过定位轴和锁紧螺母连接有定位块，定位块上设有弧形定位面，定位块经压紧螺栓连接有压紧块，...
鲍振军马平鄢定尧朱衡蔡红梅李智钢张贤红周衡
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平面摇摆式抛光去除模型研究被引量：2
2014年
为了完善平面摇摆式抛光的理论并指导加工,基于Preston方程建立了平面摇摆式加工的去除模型,并使用该模型在Matlab中仿真计算元件上各点在不同加工参数情况下的去除量,最终得到不同加工参数情况下所产生的不同去除形貌。通过控制不同参数在430mm×430mm平面石英元件上进行抛光实验,验证去除模型的正确性,对比相同参数下仿真得到的去除形貌和加工后检测得到的面形图可知该去除模型能够正确预测不同加工参数时的去除量,从而证实了该模型能够准确、有效地指导摇摆式抛光。
赵恒鄢定尧蔡红梅鲍振军
关键词：加工参数
一种抛光机
本申请公开了一种抛光机，包括气缸、移动导轨、抛光模基座、底座、抛光模和填充层。所述抛光模粘附在所述抛光模基座上的、表面面积与抛光器件表面面积大小相同、且与所述抛光器件表面贴合；所述填充层为高于一温度时呈液态、常温下成固态...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
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一种抛光工艺
本申请公开了一种抛光工艺，包括：在高温条件下，将抛光模与抛光器件表面压合，使抛光模完全复制抛光器件表面形状，然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层，加压固定后，抛光模与抛光模基座粘结，待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
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