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邢凤艳

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文科技成果

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇单管
  • 1篇等离子
  • 1篇氧化炉
  • 1篇生产率
  • 1篇卧式
  • 1篇立式
  • 1篇扩散炉
  • 1篇PECVD

机构

  • 2篇北京七星华创...

作者

  • 2篇邢凤艳
  • 2篇钟华
  • 1篇郑建宇
  • 1篇周蓉
  • 1篇陈锋
  • 1篇郝晓明
  • 1篇李彬玉
  • 1篇张会英
  • 1篇宋晓彬
  • 1篇蔡玉芝
  • 1篇杨海燕
  • 1篇程朝阳

年份

  • 2篇2004
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
立式氧化/扩散炉
程朝阳钟华邢凤艳李彬玉
系统设计思想的基点首先是要满足国际通行的SEMI标准。如：在整个工艺过程中要实现硅片的无接触传送（即SMIF、机械手传送），以保证0.13μm要求的一级以上的工艺环境；适合设备组群模块通讯的HSMS/SECS-Ⅱ通讯环境...
关键词：
关键词：扩散炉氧化炉
单管卧式热壁型PECVD
宋晓彬郑建宇郭训容钟华周蓉张会英郝晓明李补忠陈锋杨海燕顾力国蔡玉芝邢凤艳
工艺原理与参数控制化学气相淀积（Chemical Vapor Deposition；CVD）是指一种或数种物质的气体，以某种方式激活后，在衬底表面发生化学反应，并淀积出所需固体薄膜的生长技术。CVD技术具有淀积温度低、薄...
关键词：
关键词：等离子生产率
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