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程朝阳

作品数：14 被引量：1H指数：1
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 11篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 5篇硅片
  • 4篇氧化炉
  • 4篇立式
  • 3篇电器
  • 3篇温度控制
  • 3篇控制装置
  • 3篇扩散炉
  • 2篇电偶
  • 2篇电器控制
  • 2篇电器控制系统
  • 2篇信息发送
  • 2篇真空度
  • 2篇生产环境
  • 2篇气体浓度
  • 2篇气体压力
  • 2篇热电偶
  • 2篇温度均匀性
  • 2篇温度控制装置
  • 2篇立式炉
  • 2篇均匀性

机构

  • 14篇北京七星华创...

作者

  • 14篇程朝阳
  • 5篇张海轮
  • 4篇崔娟娟
  • 4篇马超
  • 4篇张芳
  • 4篇刘俊豪
  • 2篇徐冬
  • 2篇钟华
  • 2篇王峰
  • 1篇邢凤艳
  • 1篇陈亚
  • 1篇张海伦
  • 1篇曾艳丽
  • 1篇李彬玉
  • 1篇王晓卫

传媒

  • 2篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2012
  • 4篇2010
  • 1篇2004
  • 1篇2003
共 14 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
半导体设备的温度控制装置、控制系统及其控制方法
本发明公开了一种温度控制装置，包括硅片承载部，多个光加热部，测温部和温度控制部。硅片承载部包括工艺腔室、水平保持硅片的基座以及旋转该基座的旋转机构。多个光加热部向硅片射出加热光以在硅片表面形成多个加热区域，其包括平行分布...
刘俊豪程朝阳崔娟娟马超
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300mm立式氧化炉温度场控制系统
本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉温度场控制系统，设有上位机、可编程控制器PLC、固态继电器组、热电偶组和加热器；所述加热器为电热炉丝，螺旋缠绕，绝缘固定在炉内壁的内侧；所述固态继电器组，为5个固态继电器，其一端分...
程朝阳徐冬张海伦米奇.阿伽穆罕默德
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300mm立式氧化炉炉体
本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉炉体，设有主体、顶盖、基座，主体为一直立圆筒形，由内到外依次设有炉丝、炉丝支撑件、保温棉层、内壁、冷却管、外壁，炉丝由炉丝支撑件支撑固定，保温棉层设置在内壁内侧，在内壁和外壁之间设...
钟华盛金龙程朝阳胡星强艾伦·埃马米
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气体浓度控制装置、系统和方法
本发明的气体浓度控制系统以及方法扩展性强，可根据具体工艺灵活进行控制模式以及控制参数的配置，控制精度高，可靠性、可重复性和稳定性好。该气体浓度控制方法在软件设计思想上完全采用模块化结构，模块功能分明，对外仅公开接口，安全...
崔娟娟程朝阳刘俊豪马超
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气体浓度控制装置
本实用新型提供了一种气体浓度控制装置，所述装置包括：进口气路单元，用于控制、过滤、调节以及显示进口气体压力，并将处理后的气体送入源瓶；源瓶，用于存放源气体；出口气路单元，用于控制以及显示出口气体压力，并将源瓶出口的混合气...
崔娟娟程朝阳刘俊豪马超
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立式扩散炉电器控制系统及控制方法
本发明公开了一种立式扩散炉电器控制系统及控制方法，涉及半导体生产技术领域，所述系统包括：中心控制模块，用于根据传输模块和工艺模块发送来的状态信息，对所述传输模块和工艺模块进行控制；所述传输模块，用于控制硅片的传输，记录硅...
张芳张海轮慕晓航程朝阳
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一种LPCVD工艺生产环境的控制方法及其控制系统
本发明提供一种LPCVD工艺生产环境的控制方法，包括：步骤S1，所述温度传感器采集所述反应腔室内的温度信息、所述真空度传感器采集所述反应腔室内的真空度信息；步骤S2，所述反馈控制装置获得所述温度信息和真空度信息，并根据所...
王峰程朝阳张芳张海轮
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300mm立式炉温度控制系统研制被引量：1
2010年
针对300mm立式炉设备,设计、实现了一套温度控制硬件系统。硬件系统由信号采集模块、PLC模块、工控机、控制信号输出模块等组成。同时,根据工艺特性,设计了一套完整的温度控制软件系统,实现了热偶信号的采集补偿、自动温区分布、PID参数自整定、轨迹规划、斜变升温、工艺恒温等一系列系统功能。温度控制及工艺实验结果表明,该温度控制系统在可靠性、稳定性、精度等方面能够满足氧化工艺的需求,现已成功应用于300mm立式氧化炉设备。
徐冬程朝阳陈亚张海轮
关键词：立式炉温度控制PID参数自整定
立式扩散炉电器控制系统及控制方法
本发明公开了一种立式扩散炉电器控制系统及控制方法，涉及半导体生产技术领域，所述系统包括：中心控制模块，用于根据传输模块和工艺模块发送来的状态信息，对所述传输模块和工艺模块进行控制；所述传输模块，用于控制硅片的传输，记录硅...
张芳张海轮慕晓航程朝阳
一种LPCVD工艺生产环境的控制方法及其控制系统
本发明提供一种LPCVD工艺生产环境的控制方法，包括：步骤S1，所述温度传感器采集所述反应腔室内的温度信息、所述真空度传感器采集所述反应腔室内的真空度信息；步骤S2，所述反馈控制装置获得所述温度信息和真空度信息，并根据所...
王峰程朝阳张芳张海轮
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