郑杰
- 作品数：6 被引量：0H指数：0
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- 相关领域：理学电子电信机械工程更多>>
- 一种大面积二维石英纳米结构制备的工艺研究
- 2015年
- 介绍一种采用紫外(363.8nm)激光干涉光刻得到大面积二维纳米点阵结构的方法,该技术具有操作简单、光路搭建成本低、可以大面积加工微纳图形结构等优点;并利用等离子体刻蚀传递,获得周期为200nm的二维石英纳米点阵结构。通过光刻工艺与反应离子束刻蚀工艺的优化,得到加工二维石英点阵的最优制备工艺。利用扫描电子显微镜(SEM)与原子力显微镜(AFM)对制备二维纳米图形结构进行表征与分析,并利用紫外可见光分光光度计对制备的二维点阵结构图形进行紫外透过率测试,发现加工的二维结构在365nm处的透过率仍大于90%,符合紫外固化纳米印掩模板对紫外光高透过率的要求。
- 郑杰李玲吕厚祥王诗琴宫云志刘贤超
- 关键词：激光干涉光刻等离子体刻蚀
- 基于双Bowtie结构的纳米直写光刻聚焦特性研究
- 近场直写纳米光刻技术具有操作系统简单，刻写方式灵活和无需掩膜的优点，而且能够有效地突破传统光刻中存在的衍射受限问题，从而获得更高分辨率的光刻图形。该技术是基于表面等离激元(SPs)进行工作的，SPs是指光子与金属表面的电...
- 郑杰
- 六角星形Ag纳米结构的光学及传感特性
- 2016年
- 本文用时域有限差分法研究了六角星形Ag纳米结构的消光光谱及其传感特性。计算结果表明,随着顶角角度从20°逐渐增大到140°,六角星形Ag纳米结构消光光谱峰值波长出现蓝移现象,并且强度逐渐减弱。折射率灵敏度受顶角角度影响变化很大,但角度变化对消光光谱的半高全宽的影响较小,品质因数主要受折射率灵敏度的影响在30°时最大。对于实验中顶角钝化的情况,本文分析发现,顶角钝化程度对其消光光谱也有一定影响,品质因数会随着顶角钝化的增加而减小,传感特性减弱。
- 陈艳郑杰李玲汪林文张明朝谢征微陈卫东陈卫东
- 关键词：消光光谱品质因数
- 双Bowtie纳米光刻结构的聚焦特性研究
- 2017年
- Bowtie孔径结构已被广泛用于纳米直写光刻领域来获得超衍射聚焦光斑。然而,利用该结构获得的超衍射聚焦光斑呈椭圆形,影响了Bowtie结构的进一步应用。为了获得超衍射且圆形对称的聚焦光斑,本文提出了双Bowtie新型纳米光刻结构并利用Comsol软件仿真模拟了该结构的焦斑对称特性和电场增强特性。结果表明利用双Bowtie结构获得了圆形对称焦斑,并且出射面的电场强度得到了增强,是入射面电场强度的22倍。本文进一步将双Bowtie结构与金属/介质/金属结构相结合,使得局域增强后的透射光的传输距离(工作距)得到了显著延长。
- 郑杰刘贤超黄跃容刘昀玥陈卫东李玲
- Cr光栅掩模对金属平板超透镜成像质量的影响
- 2015年
- 利用有限元法并结合射频磁控溅射法制备不同厚度Cr膜的透光率的研究,模拟了金属平板超透镜近场成像特性.研究了作为"物"的Cr光栅掩模厚度、占空比对超透镜成像质量的影响.研究结果表明:成像系统的对比度随光栅掩模厚度的增加而增大,当厚度大于50 nm,达到一个稳定值;在相同掩模厚度下,成像系统的像平面随着光栅线宽W的增加而变远;在相同厚度变化范围内,W越大,对比度的变化范围(△C)和像平面位置的变化范围(△y)也都越大,但前者变化更大.研究表明:Cr光栅掩模的厚度、占空比对成像质量有明显的影响.
- 王诗琴宫云志吕厚祥刘贤超郑杰张涛谢征微陈卫东李玲
- 关键词：成像质量
- 基于遗传算法的超材料吸收器逆向设计研究
- 2023年
- 通过MATLAB编码图案控制Computer Simulation Technology(CST)Microwave Studio计算模拟软件,针对电磁超材料吸收器正向设计只能基于规则图案的现状,采用遗传算法对超材料吸收器进行逆向设计研究.以自动仿真为基础,用CST计算随机不同的初始图形结果,然后在遗传算法中迭代优化,不断用CST计算新出现图形的吸收率,最后优化出吸收率高的吸收器.首先进行单目标遗传算法优化设计吸收器,结果表明,在各个太赫兹波段,最高吸收峰的吸收率均大于96%,次高峰大于94%,平均吸收率均大于87%.然后进行多目标遗传算法优化设计,不再局限于一个单独的吸收率指标,能够加上如非目标波段的低吸收率的性能指标,实现单频吸收的功能.
- 韩志强刘爱云陈鹏胡艺山李玲祝建琦郑杰谢征微黄奕嘉刘科唐明君
- 关键词：多目标遗传算法
