张峰
- 作品数：19 被引量：34H指数：3
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- 相关领域：理学一般工业技术电气工程文化科学更多>>
- Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响被引量：1
- 2007年
- 通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势,并制备出矫顽力达到6215 Oe的垂直面内方向的SmCo/Cu薄膜;利用扫描隧道显微镜(STM)分析SmCo薄膜在不同温度下的表面形貌发现,150℃时薄膜的晶粒尺寸较小有利于改善薄膜磁性能.
- 张峰黄致新胡曾崔增丽董凯峰杨晓非
- 关键词：磁控溅射矫顽力
- TbCo薄膜磁各向异性的单离子模型分析被引量：1
- 2006年
- 根据沉积过程中薄膜中稀土原子周围最近邻原子的各向异性排列,建立了TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性的单离子模型,并计算了TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性能Ku值,与实验测量结果符合很好.结果表明:膜内非S态Tb离子的非球对称电荷分布与局部晶场之间的相互作用,是TbCo薄膜存在垂直磁各向异性的主要原因.
- 章平黄致新张玉龙王辉张峰
- 关键词：垂直磁各向异性
- SmCo系列单层和多层磁性薄膜的结构和物性研究
- 本文采用磁控溅射方法制备了SmCo系列单层和多层磁性薄膜,并采用X射线能量色散谱仪/(EDS/)、X射线衍射分析仪/(XRD/)、振动样品磁强计/(VSM/)和扫描隧道显微镜/(STM/)等对薄膜的成分、结构、磁学性能和...
- 张峰
- 关键词：磁性能
- 文献传递
- 多靶射频磁控共溅射SmCo/Cr薄膜的制备和磁性能被引量：1
- 2006年
- 采用多靶射频磁控共溅射方法制备了SmCo/Cr薄膜,用XRD和VSM测量了各样品的微结构和矫顽力.结果表明,SmCo膜具有较强的垂直各向异性,当Cr底层溅射时间为5min、SmCo磁性层溅射时间为14min、Co靶溅射功率为220W时,所得到的薄膜垂直矫顽力最大.
- 章平黄致新张玉龙王辉张峰
- 关键词：矫顽力
- 基于原子力显微的多模式扫描探针显微镜被引量：1
- 2007年
- 扫描探针显微镜是目前世界上分辨率最高的显微镜之一,也是纳米技术研究的主要工具。本文在分析原子力显微镜工作原理的基础上,探讨多模式扫描探针显微镜的相关功能,并对扫描探针显微镜的发展前景进行展望。
- 吴斌黄致新王辉张峰
- 关键词：扫描探针显微镜原子力显微镜多模式
- 硬盘磁记录介质的发展与展望被引量：14
- 2006年
- 磁记录是当今信息社会不可或缺的信息记录方式。本文综述了磁记录的发展历程,硬盘磁记录介质的研究状况以及最新进展情况,重点介绍了磁记录的几种主要形式及其发展所面临的困难,并对硬盘磁记录介质的发展前景进行了展望。
- 王辉黄致新张峰刘敏
- 关键词：磁记录介质垂直磁记录
- 大学生物理实验动手能力培养问题探究被引量：8
- 2007年
- 在讨论了实验动手能力概念的基础上,分析了当代大学生实验动手能力及大学物理实验教育所存在的问题,并就如何更好地培养大学生实验动手能力作了探究并提出了相关建议.
- 黄致新朱璐刘敏王辉张峰
- 关键词：物理实验
- 薄膜垂直磁化的理论形成机理被引量：1
- 2007年
- 要形成垂直磁化膜,必须要有足够强的垂直磁各向异性能,使得由于磁化而产生的退磁场能量不足以让磁化矢量位于膜面内。在垂直磁记录情形下,针对垂直磁各向异性常数Ku、磁化矢量M与外加磁场Hext成θ角的情况进行了理论分析。在满足磁化矢量与外加磁场方向之间的夹角稳定的平衡条件和稳定性条件的基础上,分析得知:只有满足磁各向异性常数Kn大2πM这一关系的物质才可能形成垂直磁化膜。
- 郭继花黄致新张峰崔增丽
- Sm取代Tb(Dy)对RE-TM薄膜磁光性能的影响
- 2007年
- 采用磁控溅射复合靶的方法制备了SmTbCo/Cr和SmDyCo/Cr非晶垂直磁化膜,分析了Sm含量对SmTbCo/Cr和SmDyCo/Cr薄膜磁光性能的影响.结果表明：随着Sm含量的增加,（SmxTb1-x）31 Co69和（SmxDy1-x）36 Co64薄膜的剩余磁化强度Ms、克尔旋转角θk和反射系数R增加,而Hc随之减少;Sm含量为29%～30%时,Hc×Ms最大.
- 章平黄致新张玉龙王辉张峰
- 关键词：磁控溅射磁光性能
- 溅射工艺及底层对SmCo薄膜磁性能的影响被引量：2
- 2007年
- 用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜。并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响。结果发现，当磁性层溅射功率为60W,溅射气压为0.5Pa，溅射时间为8min；底层溅射功率为125W，溅射气压为0．5Pa，溅射时间为4min时，薄膜的矫顽力高达2．79×10^5。底层对SmCo薄膜的磁性能也有影响，振动样品磁强计测量结果表明：相比Cr、Ti底层，以Cu作为底层所得到的SmCo薄膜磁性能更好，薄膜矫顽力分别比用Cr、Ti作底层时高出56％，40％。
- 张峰黄致新王辉吴斌杨晓非程伟明
- 关键词：磁控溅射控制变量法矫顽力
