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蒲勇

作品数:35 被引量:87H指数:6
供职机构:南昌大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划电子信息产业发展基金更多>>
相关领域:理学电子电信自动化与计算机技术机械工程更多>>

文献类型

  • 23篇期刊文章
  • 12篇专利

领域

  • 11篇理学
  • 10篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 1篇机械工程

主题

  • 12篇MOCVD
  • 11篇化学气相
  • 11篇化学气相沉积
  • 10篇金属有机化学...
  • 10篇ZNO薄膜
  • 8篇衍射
  • 8篇双晶衍射
  • 8篇光致
  • 8篇光致发光
  • 8篇发光
  • 8篇X射线双晶衍...
  • 8篇ZNO
  • 7篇衬底
  • 5篇金属
  • 5篇金属有机
  • 5篇MOCVD生...
  • 4篇氧化锌
  • 4篇有机化学
  • 4篇原子力显微镜
  • 4篇金属有机化学

机构

  • 35篇南昌大学
  • 2篇南昌黄绿照明...
  • 1篇教育部发光材...

作者

  • 35篇蒲勇
  • 27篇江风益
  • 21篇方文卿
  • 20篇王立
  • 16篇戴江南
  • 8篇郑畅达
  • 6篇熊传兵
  • 6篇莫春兰
  • 4篇李璠
  • 4篇苏宏波
  • 4篇程海英
  • 3篇刘卫华
  • 3篇王慧
  • 2篇李冬梅
  • 2篇彭学新
  • 1篇周鹏
  • 1篇陈玉凤
  • 1篇彭绍琴
  • 1篇邵碧琳
  • 1篇温战华

传媒

  • 6篇Journa...
  • 4篇光学学报
  • 4篇发光学报
  • 3篇南昌大学学报...
  • 1篇南昌大学学报...
  • 1篇计量技术
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇江西化工
  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2021
  • 1篇2020
  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2007
  • 13篇2006
  • 10篇2005
  • 4篇2004
  • 2篇2003
35 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用于金属有机化学气相沉积系统中的加热装置
本发明公开了一种用于金属有机化学气相沉积系统中的加热装置,它包括衬底、石墨舟、感应圈和托架,特征是石墨舟由扁平圆柱体和圆筒体构成,圆筒体加工在扁平圆柱体的底部中央。在圆筒体的底部中间加工有用于插入测温头的内凹槽。本发明由...
蒲勇江风益
文献传递
MOCVD系统中压力和压差控制技术研究被引量:3
2004年
介绍了压力和压差控制在MOCVD系统眼1演中的作用,比较了两种不同的压力和压差控制技术的优缺点,解析了国际上此类设备中压力和压差控制有关技术特点,以及用国产质量流量控制器和压力、压差传感器为主要部件研制的压力、压差控制器,在ZnO生长的MOCVD设备中良好的效果。
蒲勇江风益王慧
关键词:MOCVD压差控制技术
MOCVD方法在Cu/Si(111)基板上生长ZnO薄膜被引量:1
2006年
采用常压MOCVD方法在Cu/S i(111)基板上生长ZnO薄膜,研究了缓冲层的生长温度对ZnO外延膜性能的影响。实验通过干涉显微镜、原子力显微镜、高分辨X射线衍射仪、光致发光谱仪对样品的表面形貌、晶体结构以及发光性能进行了分析。实验结果表明:ZnO/Cu/S i(111)外延膜的性能与缓冲层的生长温度有一定关系。当缓冲层温度控制在400℃附近时ZnO外延膜C轴取向较为明显、晶粒大小较均匀、结构也更为致密,并且PL光谱中与缺陷有关的深能级发射峰也相对较弱。
程海英王立方文卿蒲勇郑畅达戴江南江风益
关键词:ZNOMOCVDX射线衍射光致发光
一种园桶形对称多片碳化硅外延生长反应管结构
本发明涉及一种园桶形对称多片碳化硅外延生长反应管,涉及制造碳化硅外延晶片生长设备技术领域,桶式结构能极大地提高碳化硅外延片的产量,且衬底的温度均匀性能自然得到保证;随着衬底尺寸的增大,桶的直径也可增大,加热线圈可做成多片...
方文卿蒲勇程海英陈炳安赵鹏杨超普
一种MOCVD石墨盘自动传递机构
一种MOCVD石墨盘自动传递机构,属于MOCVD装备制造技术领域。包括安装在反应室底板下面的固定座,升降直线导轨固接在固定座中上部;安装板固接在升降滑块上,在安装板上固接有两个轴承座组件,旋转轴紧配合安装在两个轴承座组件...
蒲勇赵鹏
文献传递
一种圆桶形对称多片碳化硅外延生长反应管结构
本发明涉及一种圆桶形对称多片碳化硅外延生长反应管,涉及制造碳化硅外延晶片生长设备技术领域,桶式结构能极大地提高碳化硅外延片的产量,且衬底的温度均匀性能自然得到保证;随着衬底尺寸的增大,桶的直径也可增大,加热线圈可做成多片...
方文卿蒲勇程海英陈炳安赵鹏杨超普
一种MOCVD石墨盘自动传递机构
一种MOCVD石墨盘自动传递机构,属于MOCVD装备制造技术领域。包括安装在反应室底板下面的固定座,升降直线导轨固接在固定座中上部;安装板固接在升降滑块上,在安装板上固接有两个轴承座组件,旋转轴紧配合安装在两个轴承座组件...
蒲勇赵鹏
文献传递
缓冲层厚度对Ti/Si模板上生长ZnO薄膜的影响被引量:1
2007年
采用常压MOCVD法,以二乙基锌和去离子水为源,在不同厚度的ZnO缓冲层上生长了一组ZnO薄膜。分别采用X射线衍射(XRD)、干涉显微镜和光致发光谱(PL)对样品的结晶性能、表面形貌和发光性能进行分析,结果表明,随着缓冲层的引入,ZnO外延膜的质量得到很大提高,缓冲层的厚度对外延ZnO薄膜的质量有很大的影响,当缓冲层厚度为60 nm时,ZnO薄膜的结晶性能最好,表现出高度的择优取向,(002)面的ω摇摆曲线半峰全宽仅为1.72°,其表面平整,表现出二维生长的趋势,室温光致发光谱中只有与自由激子复合有关的近紫外发光峰,几乎观察不到与缺陷有关的深能级发光。
李璠李冬梅戴江南王立蒲勇方文卿江风益
关键词:ZNO缓冲层MOCVD
ZnO外延膜与蓝宝石衬底的取向偏差及其弯曲变形被引量:3
2005年
采用常压MOCVD方法在Al2O3(00.1)衬底上生长出了高质量ZnO单晶薄膜。由ZnO(00.2)面和Al2O3(00.6)面及ZnO(10.2)面和Al2O3(11.6)面X射线双晶ω/2θ衍射曲线的相对峰位,得到ZnO外延膜的晶格常数及外延层和衬底间的取向差异角。结果表明外延层和衬底在应力作用下产生了取向差和晶格畸变,并且取向倾斜方向与衬底的切割倾角方向一致;高温直接生长的样品的取向差比有低温缓冲层样品更大,晶格畸变也更严重。高温直接生长的样品弯曲半径小而应力更大;实验测量的应力值和理论计算的热应力值之间存在差异,原因主要是晶格失配应力的存在。有缓冲层的样品由于能更好地弛豫晶格失配引入的应力,热应力所占整个残余应力的比例相对更大。
郑畅达方文卿王立莫春兰蒲勇戴江南刘卫华江风益
关键词:氧化锌X射线双晶衍射
用于金属有机化学气相沉积系统中的加热装置
本发明公开了一种用于金属有机化学气相沉积系统中的加热装置,它包括衬底、石墨舟、感应圈和托架,特征是石墨舟由扁平圆柱体和圆筒体构成,圆筒体加工在扁平圆柱体的底部中央。在圆筒体内加工有用于插入测温头的凹槽。本发明由于在传统的...
蒲勇江风益
文献传递
共4页<1234>
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