2024年11月8日
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张艺蒙
作品数:
236
被引量:8
H指数:2
供职机构:
西安电子科技大学
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
电气工程
一般工业技术
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合作作者
张玉明
西安电子科技大学微电子学院
宋庆文
西安电子科技大学微电子学院
汤晓燕
西安电子科技大学微电子学院
王悦湖
西安电子科技大学
贾仁需
西安电子科技大学
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夹心串联式PIN结构α辐照电池及其制备方法
本发明公开了一种夹心串联式PIN结构α辐照电池及其制备方法,主要解决当前核电池能量转化率及输出功率低的问题。其包括:串联的上、下两个PIN结和α放射源层;上PIN结自下而上依次为N型外延层欧姆接触电极、N型高掺杂外延层、...
郭辉
黄海栗
张艺蒙
宋庆文
张玉明
文献传递
一种脉冲负载电源及其电压滞环控制方法
本发明公开了一种脉冲负载电源及其电压滞环控制方法,所述电压滞环控制方法包括:利用采样电路采集连接在电源与负载之间的交错并联型双向buck/boost变换器的负载端电压;将所述交错并联型双向buck/boost变换器的负载...
孙乐嘉
林欣凯
张艺蒙
张玉明
薛璇
张少华
双槽UMOSFET器件
本发明涉及一种双槽UMOSFET器件。该器件包括衬底区(1);漂移区(2)、外延层(3)、源区(4),依次层叠于衬底区(1)的上表面;栅极,设置于漂移区(2)、外延层(3)及源区(4)内部并位于双槽UMOSFET器件的中...
汤晓燕
陈辉
宋庆文
张艺蒙
张玉明
注入增强型SiC PNM-IGBT器件及其制备方法
本发明涉及一种注入增强型SiC PNM‑IGBT器件及其制备方法。该制备方法包括:利用热壁LPCVD工艺在SiC衬底连续生长过渡层、第一漂移层、缓冲层、集电层;利用CMP工艺,去除SiC衬底和过渡层,刻蚀第一漂移层,形成...
汤晓燕
姜珊
宋庆文
张艺蒙
张玉明
文献传递
一种纵向沟道的SiC肖特基栅双极型晶体管及制备方法
本发明提供了一种纵向沟道的SiC肖特基栅双极型晶体管,包括N+碳化硅衬底,形成于N+碳化硅衬底表面的发射极接触金属层,形成于N+碳化硅衬底上的P+缓冲层,形成于P+缓冲层上P‑漂移区,形成于P‑漂移区上的P+集电区,形成...
宋庆文
刘思成
汤晓燕
元磊
张艺蒙
张玉明
文献传递
一种基于N型纳米薄层来提高N型DiMOSFET沟道迁移率方法
本发明公开了一种基于N型纳米薄层来提高N型DiMOSFET沟道迁移率方法,在已有离子注入工艺基础上将注入形成对导电沟道层注氮改为由外延形成的N<Sup>+</Sup>外延层a对导电沟道层注氮;对于N沟DiMOSFET器件...
宋庆文
何艳静
汤晓燕
张艺蒙
贾仁需
吕红亮
张玉明
文献传递
一种互偏置双电压轨产生电路
本发明提供的一种互偏置双电压轨产生电路,包括:自启动电路、高电压轨产生电路和低电压轨产生电路。该互偏置双电压轨产生电路在电源电压和地变化时,产生一条始终比电源电压低V<Sub>REF1</Sub>的电压轨道,以及一条始终...
张艺蒙
储子元
张玉明
宋庆文
汤晓燕
带有双区浮动结的碳化硅UMOSFET器件及制作方法
本发明公开了一种带有双区浮动结的碳化硅UMOSFET器件及其制备方法,该器件自下往上依次包括漏极、N+衬底、一次N-漂移区、P+离子注入区和二次N-漂移区,二次N-漂移区上设有槽栅介质,槽栅介质内设有多晶硅,槽栅介质两侧...
汤晓燕
田瑞彦
宋庆文
张艺蒙
张玉明
文献传递
一种平面变压器
本发明公开了一种平面变压器,包括磁芯组件和环绕磁芯组件的绕组组件;其中,磁芯组件包括纵向依次排布的第一磁芯、第二磁芯以及第三磁芯;第一磁芯和第三磁芯均包含磁柱,第二磁芯为I型磁芯,且第一磁芯的磁柱朝下并与第二磁芯对应贴合...
张艺蒙
孙世凯
郭辉
汤晓燕
宋庆文
张玉明
文献传递
基于MOSFET开关动态特性的驱动电路
本发明公开了一种基于MOSFET开关动态特性的驱动电路,其包括控制单元、隔离单元、MOSFET驱动单元。控制单元用于采样MOSFET开关过程中的栅极电压并产生MOSFET开关各阶段切换驱动电阻所需的逻辑信号。隔离单元用于...
张艺蒙
许耀
宋庆文
汤晓燕
张玉明
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