申林
- 作品数：17 被引量：33H指数：3
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>
- 自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计
- 本文利用射频离子源RF-2001 控制器USER INTERFACE 接口具有遥控开关控制的功能，采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC-7325E，实现了计算机对离子源的程序控制。由于离子源具有长期运行非常稳定的优...
- 刘洪祥李凌辉申林熊胜明张云洞
- 关键词：光学薄膜离子束溅射光电传感器
- 文献传递
- 时间监控离子束溅射沉积光学薄膜的厚度修正
- 通过单层和多层膜的实验模拟,研究了离子束溅射沉积速率和沉积时间的关系。在溅射镀膜的初始阶段,对于Ta2O5,沉积速率随时间增加而增大;对于SiO2,沉积速率随时间先显著地增加,随后逐渐地减小。结果表明,通过对高、低折射率...
- 刘洪祥李凌辉申林熊胜明张云洞
- 关键词：离子束溅射光学厚度
- 文献传递
- 自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计被引量：3
- 2004年
- 利用射频离子源RF—2001控制器USERINTERFACE接口具有遥控开关控制的功能,采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC—7325E,通过光电传感器对靶转动定位、行星转动系统的监控,在国产IBSD—1000型离子束溅射镀膜系统上,首次成功地实现了单、双离子束溅射沉积镀膜过程的自动化控制。控制软件采用VB编程,程序控制界面直观、易于操作。
- 刘洪祥李凌辉申林熊胜明张云洞
- 关键词：光电传感器自动控制光学薄膜离子束溅射
- 双离子束溅射技术制备带通滤光片被引量：7
- 2004年
- 研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波通和长波通的工艺过程,最后测试并分析了由短波通和长波通组成带通滤光片的光学性能。实验结果表明,采用双离子束溅射技术,以沉积时间作为膜厚监控手段能够制备出具有优良光性能并满足应用设计要求的带通滤光片。
- 申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
- 关键词：带通滤光片
- 时间监控离子束溅射沉积光学薄膜的厚度修正被引量：2
- 2004年
- 通过单层和多层膜的实验模拟,研究了离子束溅射沉积速率和沉积时间的关系。在溅射镀膜的初始阶段,对于Ta2O5,沉积速率随时间增加而增大;对于SiO2,沉积速率随时间先显著地增加,随后逐渐地减小。结果表明,通过对高、低折射率各层的监控时间进行补偿,即可实现光学薄膜厚度的精确监控。
- 刘洪祥李凌辉申林熊胜明张云洞
- 关键词：离子束溅射光学薄膜多层膜单层膜
- 双离子束溅射技术制备带通滤光片
- 研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波...
- 申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
- 关键词：带通滤光片
- 文献传递
- 离子束溅射制备带通滤光片
- 本文研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了使用的离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术，描述了分别在K9 璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光...
- 申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
- 关键词：带通滤光片离子束溅射
- 文献传递
- 氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术
- 研究了由TaO和SiO组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺。简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法。先后得到了TaO和SiO单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜...
- 申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
- 关键词：离子束溅射增透膜
- 文献传递
- 离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验被引量：6
- 2004年
- 介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正。分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正。实验结果表明,修正后的均匀性结果优于 1%,能满足实际应用的要求;靶摆动修正的均匀性结果优于修正板技术。
- 李凌辉熊胜明申林刘洪祥张云洞
- 关键词：离子束溅射膜厚均匀性
- 氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术被引量：9
- 2003年
- 研究了由Ta2O5和SiO2组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺。简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法。先后得到了Ta2O5和SiO2单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜折射率,并定性地分析比较了离子束溅射和电子束蒸发制备的薄膜结构;制备并测试了633nm,1315nm反射薄膜以及增透膜。结果表明:采用离子束溅射技术能够制备出优良的、满足需要的激光高反射薄膜元件。
- 申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
- 关键词：离子束溅射增透膜
