孙文起
- 作品数：20 被引量：54H指数：4
- 供职机构：安徽工业大学化学与化工学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金安徽省教学研究项目安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺文化科学电子电信更多>>
- 铑(Ⅲ)催化碳氢键活化合成氮杂环衍生物
- 2016年
- 采用一种过渡金属铑催化的咪唑盐类底物与炔烃的插入反应,实现了氮杂环衍生物的高效合成:以[Cp*Rh Cl2]2(0.005 mmol,摩尔分数5%)作为催化剂,醋酸钠(0.16 mmol)作为碱,三氟甲基磺酸银(1.2 mmol)作为氧化剂,催化二溴咪唑盐化合物(1)(0.1 mmol)与二苯乙炔(2)(0.5 mmol)反应,以80%产率制备出目标咪唑盐化合物3。对目标化合物3通过核磁(1H,13C,COSY,HSQC及HMBC)、X射线单晶衍射进行了表征,结果表明:化合物3属于单斜晶系,空间群P21/n,晶体学参数:a=16.68(5)?,b=8.66(3)?,c=18.48(6)?,b=93.71(5)°,V=2 664(14)?3,Z=2,Dc=1.350×10~3kg/m^3,F(000)1 124,R_1=0.086 7,wR_2=0.227 5。
- 孙丽英张帆孙文起袁国赞
- 关键词：铑催化炔烃
- 《工程化学基础》课程教学创新模式的开发与实施
- 2023年
- 通过借鉴美国“微软大帝”比尔•盖兹的成功成长经验,融汇贯穿并迁移运用于工程化学基础课程教学之中,灵活采纳丰富的资源和现代化信息手段,同时努力营造思政教育情境,构建全新的教学模式,使学生加深对课程内容的理解,激发学生的潜能和实际应用能力,最终培养出高素质创新人才。
- 吴芳辉叶明富张莉艳吴孔林孙文起康延赏
- 关键词：课程教学模式
- 一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液
- 本发明公开一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液，该抛光液的组成及其质量百分比是：酸：1-10％；钾盐：0.5-1％；络合剂：0.1-2％、表面活性剂：0.01-0.1％；pH调节剂KOH：1-5％；其余为水。其中酸...
- 储向峰董永平张王兵孙文起
- 一种制备脱硝催化剂的方法
- 本发明公开了一种脱硝催化剂的制备方法。该方法包括以下步骤：（1）以钛白粉厂的中间产品偏钛酸为原料，分别用稀硝酸、稀氨水、去离子水洗涤除去其杂质离子，制得偏钛酸浆料；（2）在上述偏钛酸浆料中依次加入钨酸铵、钼酸铵和偏钒酸铵...
- 储向峰杨帆周影陈同云董永平孙文起张王兵
- 文献传递
- 纳米氧化铈抛光液对钌的化学机械抛光被引量：1
- 2013年
- 采用液相沉淀法制备了纳米CeO2磨料,利用X射线衍射(XRD)表征其物相组成。通过纳米粒度仪研究了分散剂种类、热处理温度对CeO2磨料制备的悬浮液的粒径分布和Zeta电势的影响。用由CeO2磨料制备的抛光液对钌进行化学机械抛光,采用原子力显微镜观察钌片表面的微观形貌。结果表明:制备的粉体是具有立方萤石型结构的纳米CeO2,其晶粒尺寸随热处理温度的升高而增大;CeO2磨料在以六偏磷酸钠(SHMP)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好;在抛光压力为6.9 kPa,抛光台转速为50 r/min,抛光液流量为50 mL/min,抛光液pH值为10.0,抛光液主要组成(质量分数)为1%CeO2,1%(NH4)2S2O8,0.01%SHMP的条件下,钌的抛光速率达到9.0 nm/min,表面粗糙度Ra值为2.2 nm。
- 王婕储向峰董永平张王兵孙文起
- 关键词：CEO2钌化学机械抛光分散剂
- 乳酸体系抛光液中锇的化学机械抛光被引量：2
- 2014年
- 本文研究了乳酸(HL)体系抛光液中金属锇的化学机械抛光(CMP)行为,采用电化学分析方法和X射线光电子能谱仪(XPS)分析氧化剂和腐蚀抑制剂的作用机理,利用原子力显微镜(AFM)观察抛光前后锇的表面形貌.结果表明,当抛光液仅含有H2O2时,金属锇表面腐蚀不明显;在一定浓度范围内H2O2浓度的增加可以提高金属锇表面的腐蚀速度,但是不利于金属锇表面钝化膜的形成.当抛光条件为:压力为6.895 kPa,转速为50 r/min,抛光液流量为50 mL/min,pH值为5.0;抛光液组成为:SiO2质量分数为1%,HL质量分数为1%,H2O2质量分数为3%时,得到最大去除速率为23.34 nm/min,表面粗糙度Ra为6.3 nm,而将缓蚀剂BTA加入到抛光液后,在同样的抛光条件下得到的锇表面粗糙度更低,表面粗糙度Ra达到2.1 nm.
- 梁淼储向峰董永平张王兵孙文起
- 关键词：化学机械抛光锇乳酸极化曲线
- 面向机械工程类专业的工程化学教学改革研究与实践被引量：6
- 2015年
- 根据机械工程类专业的特点,我们在公共基础课工程化学的教学过程中理论联系实际,适当介绍一些与机械工程与制造相关的基础化学知识,加深学生对工程化学课程重要性及实用性的认识,激发学生的学习兴趣,培养学生的探索精神和创新思维能力,提高教学质量与实际效果。
- 储向峰储昭莲孙文起白林山伊廷峰
- 关键词：教改
- 咪唑对钌化学机械抛光的影响被引量：2
- 2013年
- 利用自制的抛光液,研究了在磷酸体系抛光液中咪唑(imidazole,C3H4N2)浓度和pH值对钌的抛光速率的影响。采用电化学分析方法和X射线光电子能谱仪(XPS)分析了缓蚀剂咪唑对腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜(AFM)观察钌片表面的微观形貌。试验结果表明:金属钌在未加入咪唑的磷酸体系抛光液中,抛光速率最高为6.2nm/min,平均粗糙度(Ra)为10.7nm;而在抛光液中加入咪唑后,钌的抛光速率为3.9nm/min,平均粗糙度(Ra)降至1.0nm。咪唑的加入,虽然降低了金属钌的抛光速率,但提高了金属钌的表面质量。同时也促进了金属钌表面钝化膜的生成,降低了金属钌的腐蚀电流值,抑制了阴极反应。
- 王婕储向峰董永平孙文起叶明富白林山
- 关键词：钌咪唑化学机械抛光电化学检测
- 不同磨料对蓝宝石晶片化学机械抛光的影响研究被引量：21
- 2013年
- 本文制备了几种含不同磨料(SiC、Al2O3、不同粒径SiO2)的抛光液,通过纳米粒度仪分析磨料粒径分布,采用原子力显微镜观察磨料的粒径大小。研究了不同磨料对蓝宝石晶片化学机械抛光(CMP)的影响,利用原子力显微镜检测抛光前后蓝宝石晶片表面粗糙度。实验结果表明,在相同的条件下,采用SiC、Al2O3作为磨料时,材料去除速率与表面粗糙度均不理想;而采用含1%粒径为110 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率最高为41.6 nm/min,表面粗糙度Ra=2.3 nm;采用含1%粒径为80 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率为36.5 nm/min,表面粗糙度最低Ra=1.2 nm。
- 熊伟储向峰董永平毕磊叶明富孙文起
- 关键词：蓝宝石化学机械抛光去除速率表面粗糙度磨料
- 2-氨基乙醇振动频率及碱度的理论研究
- 2010年
- 运用B3LYP方法在6-311+G(d,p)水平上对气相、水及四氯化碳溶液中2-氨基乙醇的构型稳定性、分子内氢键强度、振动频率及气相碱度进行了研究。计算结果表明,在气相中g′Gg′构型因具有分子内氢键而成为最稳定的构型。水溶液中2-氨基乙醇构型的稳定性决定于分子内氢键和羟基基团分子间溶剂化的综合作用。通过对振动模式的分析,表明随着构型能量的增加,各构型中C-O-H键弯曲和C-O键振动频率均蓝移,而O-H键振动频率红移;四氯化碳溶液中的振动频率和实验结果一致,计算结果表明G型2-氨基乙醇的气相碱度比T型的大。
- 孙文起
- 关键词：振动频率
