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文献类型

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领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇硅外延
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体工艺
  • 1篇SOI材料
  • 1篇大流量

机构

  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇信息产业部

作者

  • 2篇谈长平
  • 1篇毛儒焱
  • 1篇冯建
  • 1篇邹修庆
  • 1篇李文
  • 1篇陈洪波
  • 1篇陈洪波
  • 1篇熊化兵

传媒

  • 1篇微电子学
  • 1篇第十二届全国...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇2001
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
大流量超纯氢气纯化设备制造技术被引量:2
2002年
超纯氢气 (大于 6N)是半导体硅外延等工艺必备的工艺气体。文章介绍了利用超低温吸附的方法提纯大流量超纯氢气的工作原理 ,设备制造中的关键技术问题及难点 。
熊化兵李文陈洪波谈长平
关键词:硅外延半导体工艺
SOI材料制备技术
为了适应高可靠和抗核加固集成电路的应用需要,以及满足硅圆片大直径化的需要,采用SDB(Silicon Wafer Direct Bonding)方法,制作出顶层单晶硅厚度大于5μm的SOI结构材料.结合横向隔离技术,实现...
毛儒焱冯建谈长平邹修庆陈洪波
关键词:SOI材料
文献传递
共1页<1>
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