臧海荣
- 作品数：4 被引量：3H指数：1
- 供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金辽宁省教育厅高等学校科学研究项目辽宁省教育厅资助项目更多>>
- 相关领域：理学文化科学一般工业技术机械工程更多>>
- 高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能的研究
- 高功率脉冲磁控溅射技术（HPPMS）由于具有溅射粒子离化率高,可以沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术已经在国外广泛研究。本文采用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术（HPPUMS）制备了一系列CrN薄膜,采用原子力显微镜（AF...
- 牟晓东牟宗信王春臧海荣刘冰冰董闯
- 关键词：气相沉积脉冲功率
- 文献传递
- 中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能(英文)被引量：2
- 2011年
- 本文采用中频孪生靶非平衡磁控溅射技术在不同氮气流量比例的条件下制备出氮化硅薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、椭偏仪等研究了氮气流量比率对氮化硅薄膜的微观结构、表面形貌、沉积速率、折射率的影响。结果表明:中频孪生非平衡磁控溅射技术制备的薄膜为非晶态氮化硅。随着氮气流量比率的增加,Si-N键红外光谱吸收带向低波数漂移,薄膜的沉积速率降低,表面结构更为光滑致密,氮化硅薄膜的折射率降低。薄膜的硬度和杨氏模量分别达到22和220GPa左右。
- 王春牟宗信刘冰冰臧海荣牟晓东
- 关键词：氮化硅薄膜折射率磁控溅射红外光谱
- 高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能研究被引量：1
- 2010年
- 高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)溅射粒子离化率高,可沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术在国外广泛研究。本文用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)制备一系列CrN_x薄膜,采用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)对不同厚度的薄膜表面形貌、微观结构进行了分析,测定了薄膜的厚度和硬度,研究了薄膜的摩擦学性能,并与中频磁控溅射(MFMS)技术制备的CrN_x进行比较。结果表明,使用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)能制备致密的CrN_x薄膜。薄膜有较好的综合性能,有较高硬度、较高结合强度和低摩擦系数。
- 牟晓东牟宗信王春臧海荣刘冰冰董闯
- 关键词：气相沉积脉冲功率
- 高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能的研究
- 高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)由于具有溅射粒子离化率高,可以沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术已经在国外广泛研究。本文采用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)制备了一系列CrNx薄膜,采用原子力显微镜(A...
- 牟晓东牟宗信王春臧海荣刘冰冰董闯
- 关键词：CRNX薄膜气相沉积脉冲功率
- 文献传递
