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张济中

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：清华大学材料科学与工程系更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇国内会议论文

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氧化铝
  • 1篇特性分析
  • 1篇离子注入
  • 1篇TI

机构

  • 1篇清华大学

作者

  • 1篇李文治
  • 1篇李德兴
  • 1篇康建昌
  • 1篇张济中
  • 1篇王杰

年份

  • 1篇2004
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
Ti、Cu离子注入Al2O3表面特性分析
采用掠射X射线衍射(GXRD)分析了分别注Ti和注Cu的α-Al2O3样品表面物相变化。剂量较低(≤3.1×1017cm-2)时Ti原子沿着基底Al2O3的某个晶粒方向生长,形成类似单晶的结构。剂量较高时此表面结构转变为...
李德兴康建昌王杰张济中李文治
关键词：离子注入氧化铝
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