您的位置: 专家智库 > >

何梅芬

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:中国电子科技集团第十三研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇单片
  • 1篇载流子
  • 1篇砷化镓
  • 1篇深能级
  • 1篇能级
  • 1篇汽相外延
  • 1篇注氮
  • 1篇自由载流子
  • 1篇微波单片
  • 1篇微波器件
  • 1篇晶体管
  • 1篇功率管
  • 1篇功率晶体管
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体工艺
  • 1篇GAAS

机构

  • 1篇北京大学
  • 1篇北京有色金属...
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇电子工业部

作者

  • 2篇何梅芬
  • 2篇吕云安
  • 1篇陈开茅
  • 1篇严振斌
  • 1篇刘鸿飞
  • 1篇金泗轩
  • 1篇艾广勤
  • 1篇邱素娟
  • 1篇徐永强
  • 1篇张藏珍

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2005
  • 1篇1996
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
用于微波单片和功率管的GaAs VPE材料
吕云安严振斌徐永强张藏珍何梅芬艾广勤刘玉兰等
一、成果内容简介:采用常用规的Ga/AsCl<,3>/H<,2>氯化物气相外延的方法,在Si-GaAs单晶衬底上生长出适用于CaAsMMIC和功率MESFET的2in与3inn+/n/n-/Si-GaAs多层外延材料并具...
关键词:
关键词:半导体工艺微波器件功率晶体管汽相外延
注氮GaAs中的深能级及其对自由载流子的补偿
1996年
详细研究了注氮n型GaAs中深的和浅的杂质缺陷的电学性质。深能级瞬态谱(DLTS)技术测量表明,能量为140keV和剂量为1×10^(13)cm^(-2)的氮离子注入并经800℃退火30min的GaAs中存在四个电子陷阱,E_1(0.111),E_2(0.234),E_3(0.415),E_4(0.669)和一个空穴陷阱H(0.545),而在能量为20keV和剂量为5×10^(14)cm^(-2)的氮离子注入并经同样退火的同种GaAs中,只观测到E_4和H(0.545)两种缺陷,E_2和E_3是高能量注入损伤缺陷,E_4可能是本征缺陷和注入损伤的络合物,H(0.545)是与氮有关的深能级,它可能与掺氮n型GaAs中的自由载流子受到严重补偿有关。
陈开茅金泗轩贾勇强邱素娟吕云安何梅芬刘鸿飞
关键词:砷化镓注氮深能级载流子
共1页<1>
聚类工具0