李蔚
- 作品数：15 被引量：8H指数：2
- 供职机构：武汉理工大学更多>>
- 发文基金：武汉市科技攻关计划项目更多>>
- 相关领域：电气工程一般工业技术理学电子电信更多>>
- 晶体硅薄膜的低温制备技术及其光学性能研究
- 晶体硅薄膜由于具有稳定、高效、生产成本低的特点，已经成为一种很有潜力的光伏太阳能材料，引起了当今世界范围的广泛关注。如何提高非晶硅薄膜的晶化速度和降低晶化温度是当前的研究热点之一。
本文对两种晶体硅薄膜—氢化纳...
- 李蔚
- 关键词：太阳能材料气相沉积晶化温度
- 文献传递
- 一种采用超快激光转移薄膜材料的加工方法
- 本发明属于激光加工领域，具体涉及一种采用超快激光转移薄膜材料的加工方法，包括：在清洁基板上沉积薄膜材料，得到施主基板；取另一清洁基板作为受主基板，将受主基板与施主基板上的薄膜材料相接触，然后一同放置在激光加工台上，调整激...
- 黄福志吕雪辉程一兵钟杰彭勇库治良李蔚肖俊彦谭光耀
- 文献传递
- 一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法
- 本发明提供一种钙钛矿太阳能电池的制备方法，该方法，包括以下步骤：1)在FTO导电玻璃基板上，采用TiCl<Sub>4</Sub>化学浴沉积法制得TiO<Sub>2</Sub>薄膜后，经过退火处理，得到TiO<Sub>2<...
- 程一兵高翔李蔚
- 文献传递
- 一种无机CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿薄膜及其制备方法
- 本发明涉及一种无机CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿薄膜及其制备方法，所述无机CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿薄膜晶粒尺寸均匀，无孔洞，其制备方法步骤如下：1)将制备CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿...
- 李蔚江炀杜红强
- 沉积功率对多晶硅薄膜结构和光学性质的影响被引量：3
- 2007年
- 采用等离子体化学汽相沉积（PECVD）方法在普通玻璃衬底上制备出多晶硅薄膜。研究了在不同沉积功率下的薄膜的沉积速率、晶相结构、吸收系数和光学禁带宽度。实验结果表明，沉积功率为140W时薄膜沉积速率最大，达到7．8nm／min。沉积功率为30W多晶硅薄膜的晶粒较大，平均尺寸200nm左右。沉积功率为100W薄膜有较高结晶度，晶化率达到68％。薄膜样品在波长为500nm的光吸收系数达到6×10^4cm^-1，在不同功率下样品的光学禁带宽度在1．70—1．85eV之间变化。
- 沈峰夏冬林李蔚赵修建
- 关键词：多晶硅薄膜沉积速率光学带隙
- 一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法
- 本发明提供一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法。该钙钛矿太阳能电池包括基底和依次设置在所述基底上的电子传输层、CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿层、空穴传输层及金属电极；所述CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿层的...
- 鄢永高余力李蔚
- 文献传递
- 一种无机CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿薄膜及其制备方法
- 本发明涉及一种无机CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿薄膜及其制备方法，所述无机CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿薄膜晶粒尺寸均匀，无孔洞，其制备方法步骤如下：1)将制备CsPbI<Sub>3</Sub>钙钛矿...
- 李蔚江炀杜红强
- 一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法
- 本发明提供一种钙钛矿太阳能电池的制备方法，该方法，包括以下步骤：1)在FTO导电玻璃基板上，采用TiCl<Sub>4</Sub>化学浴沉积法制得TiO<Sub>2</Sub>薄膜后，经过退火处理，得到TiO<Sub>2<...
- 程一兵高翔李蔚
- 硅薄膜太阳能电池的关键制备技术
- 赵修建夏冬林赵青南韩建军周学东杨晟郝江波沈峰李蔚王慧芳倪佳苗潘震
- 该课题属武汉市科技攻关项目。该项目是针对中国面临的能源危机和环境保护的热门研究领域，深入研究在普通平板玻璃上制备a-Si、poly-Si薄膜太阳能电池。该项目的研究对发展新的环境协调型材料和生态建筑材料、保护环境和实现可...
- 关键词：
- 关键词：建筑材料
- 电场辅助铝诱导晶化非晶硅薄膜被引量：5
- 2010年
- 以氢气稀释的硅烷和氢气为反应气体,利用PECVD法先在玻璃衬底上生长非晶硅薄膜,然后利用磁控溅射法在非晶硅薄膜上镀制铝膜,最后将镀有铝膜的非晶硅薄膜样品置于快速热处理炉中,在外加电场辅助条件下,在氮气气氛下对薄膜样品进行退火制备多晶硅薄膜。本论文研究了不同外加电场强度和退火时间对非晶硅薄膜晶化的影响。利用XRD、SEM和Raman等测试方法对薄膜样品的晶相结构、表面形貌和晶化程度进行了表征。实验结果表明,在外加横向电场辅助铝诱导晶化的条件下,非晶硅薄膜在500℃低温下成功地转化成多晶硅薄膜,并且随着横向电场强度的增大以及退火时间的延长,薄膜的晶化程度增强,晶粒尺寸增大。
- 夏冬林王慧芳石正忠张兴良李蔚
- 关键词：非晶硅薄膜多晶硅薄膜金属诱导晶化等离子体增强化学气相沉积
