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唐明浩

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第十三研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇亚微米
  • 1篇自对准
  • 1篇自对准工艺
  • 1篇微米
  • 1篇光刻
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体器件
  • 1篇RIE

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇郎秀兰
  • 1篇朱石平
  • 1篇唐明浩
  • 1篇苏丽娟

传媒

  • 1篇半导体情报

年份

  • 1篇1999
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
亚微米自对准工艺被引量：1
1999年
介绍了一种新的亚微米发射极窗口刻蚀工艺。利用ＲＩＥ技术和边墙隔离技术，无须对位光刻，使发射极窗口精确地位于发射区中央。该工艺简单，具有良好的可操作性和重复性。
唐明浩朱石平张大立郎秀兰吕仲志王书明苏丽娟
关键词：光刻RIE半导体器件
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共1页<1>
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