赵彦辉
- 作品数：108 被引量：132H指数：7
- 供职机构：中国科学院金属研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划沈阳市科技计划项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学化学工程更多>>
- 氩气对渗氮处理304不锈钢结构及硬度的影响
- 2013年
- 采用电弧等离子体辅助渗氮处理了304不锈钢,考察了温度在480℃、处理1 h时氩气含量(0～60%)对处理后渗层组织结构及硬度的影响。采用X射线衍射(XRD)分析渗氮层的相组成,采用扫描电子显微镜(SEM)及光学显微镜分别观察渗氮样品表面形貌及横截面形貌,利用X射线光电子谱(XPS)及显微硬度计测试渗氮层的氮含量及横截面硬度分布。结果表明:氮化处理后在不同氩气含量时得到的渗氮层厚度在45～55μm范围内,表层氮含量随着氩气含量增加略有降低,从XRD图谱中发现均有铁氮化物及氮化铬相析出,这些氮化物的析出促进了渗层显微硬度的提高,表层硬度最高达到了1300 HV0.05。
- 赵彦辉贾莹冯丹李凤岐于宝海
- 关键词：奥氏体不锈钢
- 多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置
- 本发明涉及薄膜制备领域，具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置。该电弧离子镀装置设有靶材、旋转磁场装置、电磁线圈、绝缘套、法兰、真空室、基体夹座，真空室内设置基体夹座、...
- 肖金泉郎文昌孙超宫骏赵彦辉闻立时
- 文献传递
- 一种模具表面耐磨防粘纳米复合TiSiCN涂层及其制备方法
- 本发明属于金属材料表面处理技术领域，具体涉及一种模具表面耐磨防粘纳米复合TiSiCN涂层及其制备方法。在基体表面依次是Ti层、TiN层、TiSiN层以及TiSiCN层，TiSiCN层的厚度为2～20微米。本发明采用磁场增...
- 赵彦辉李彤史文博肖金泉刘忠海于宝海
- 一种Zr-Cu-N纳米复合耐磨抗菌涂层及其制备方法
- 本发明属于金属材料表面沉积纳米复合耐磨抗菌涂层技术领域，具体涉及一种氮化锆铜(以下称Zr‑Cu‑N)纳米复合耐磨抗菌涂层及其制备方法。在基体表面依次是ZrCu膜形成的过渡层和Zr‑Cu‑N层，Zr‑Cu‑N纳米复合耐磨抗...
- 赵彦辉刘占奇刘兴龙徐丽任玲于宝海肖金泉杨柯
- 文献传递
- 一种不锈钢器皿表面抗菌耐磨涂层及其制备方法和应用
- 本发明属于不锈钢器皿表面处理领域，具体来说是一种不锈钢器皿表面抗菌耐磨涂层及其制备方法和其进行不锈钢器皿表面进行涂层的应用。在不锈钢器皿表面依次沉积TiCu过度层及Ti‑Cu‑N抗菌耐磨涂层，Ti‑Cu‑N抗菌耐磨涂层的...
- 赵彦辉徐丽刘占奇欧剑华刘炳耀肖金泉于宝海任玲杨柯
- 文献传递
- 一种材料表面含氢类金刚石薄膜及其制备方法
- 本发明属于材料表面处理技术领域，具体涉及一种材料表面含氢类金刚石薄膜及其制备方法。在基体或工件表面依次是金属粘结层、碳化物(或碳氮化物)支撑层以及ta‑C:H薄膜，金属粘结层的厚度为0.1～1.0微米，碳化物或碳氮化物支...
- 赵彦辉肖金泉
- 低温低压电弧等离子体渗氮处理316不锈钢的耐腐蚀性能被引量：5
- 2017年
- 在低温下对316奥氏体不锈钢进行低压电弧等离子体渗氮处理,研究了渗氮处理对不锈钢耐腐蚀性能的影响。结果表明:渗氮层有两个子层,由纳米晶扩张奥氏体和少量的Cr N化合物组成的外表层和单一结构的扩张奥氏体内层。由于低压电弧等离子体浓度高,在400℃渗氮1 h得到的渗氮层厚度达到15μm,表现出很高的渗氮速率。纳米晶外表层是渗氮不锈钢耐腐蚀性能的关键,促进了钝化膜的生成,渗氮后试样表面形成的钝化膜厚度达到27 nm,比原始不锈钢钝化膜的2倍还多。渗氮不锈钢试样的腐蚀电流(3.55×10^(-8)A/cm^2)比基材的腐蚀电流(1.99×10^(-7)A/cm^2)降低一个数量级,表明渗氮后试样的耐腐蚀性能提高了。
- 杨文进赵彦辉沈明礼刘占奇肖金泉宫骏于宝海孙超
- 关键词：材料失效与保护耐腐蚀性能
- 一种金属材料表面先镀膜再渗氮的复合处理方法
- 本发明属于材料表面改性领域，具体为一种金属材料表面先镀膜再渗氮的复合处理方法，适用于刀具、模具、金属零部件的表面强化。首先采用磁控溅射或电弧离子镀在金属材料基体表面沉积一层氮化物薄膜，薄膜厚度为0.1～50微米；然后采用...
- 赵彦辉于宝海肖金泉
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- 一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置
- 本发明属于材料表面改性领域，具体为一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置，用于控制阴极弧斑运动速度，约束等离子体的传输，提高薄膜的沉积速率和沉积均匀性，减少靶材表面大颗粒的喷射，提高靶材刻蚀均匀性。电弧离子镀装置设置有...
- 赵彦辉肖金泉于宝海华伟刚宫骏孙超
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- 一种改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置
- 本实用新型涉及薄膜制备领域，具体地说是一种新型的改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置。所述改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置设有动态控制磁场发生装置、靶材、靶材底座，靶材安装于靶材底座上，动态控制磁场发生装置为...
- 肖金泉郎文昌孙超宫骏杜昊赵彦辉杨英闻立时
- 文献传递
