孙超
- 作品数：363 被引量：1,106H指数：18
- 供职机构：中国科学院金属研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国科学院知识创新工程重要方向项目辽宁省科委资助项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学电子电信更多>>
- 一种NiCoCrAlYSiB抗热腐蚀涂层及其制备方法
- 本发明涉及涂层技术，具体地说是公开一种NiCoCrAlYSiB抗热腐蚀高温防护涂层及制备方法。其特征在于：元素含量为Co：28-35wt.%，Cr：17～23wt.%，Al：5～12wt.%，Y：0.1～0.6wt.%，...
- 孙超武颖娜王启民柯培玲王福会华伟刚肖金泉宫骏闻立时
- 文献传递
- 航空发动机叶片叶尖强化涂层关键技术研究
- 作为航空发动机的核心部件,叶片长期处于高温、高压、复杂应力耦合的环境中,尤其是叶片的叶尖部分。研究发现,叶片的使用寿命与叶尖的失效密切相关,已逐渐成为叶片整体防护的短板。近年来,随着我国新型高性能航空发动机的研制,对叶片...
- 裴志亮宫骏孙超
- 关键词：航空发动机耐磨抗高温氧化
- 高温防护涂层扩散阻挡层的研究进展被引量：15
- 2009年
- 综述了高温防护涂层体系扩散阻挡层的研究进展,说明了扩散阻挡层在高温防护涂层体系中的作用机理,比较了不同种类扩散阻挡层的差别,尤其是元素扩散阻挡能力、界面结合强度和制备成本的差别,从工业应用方面分析了各种扩散阻挡层的优缺点,提出了可通过改变涂层结构和改进加工工艺来提高陶瓷扩散阻挡层的界面结合强度。
- 李伟洲王启民孙超
- 关键词：扩散阻挡层界面结合强度
- 聚苯胺的抗菌性及其机制被引量：4
- 2010年
- 进行了聚苯胺溶出液、聚苯胺粉末和聚苯胺复合漆膜的抗菌性实验,用FT-IR检测了溶出液的成分,研究了本征态聚苯胺和掺杂态聚苯胺对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌、白色念珠菌和枯草芽孢菌的抗菌性能及其随作用时间的变化,研究了与聚苯胺作用前后细菌的形貌变化以及聚苯胺的抗菌机制。
- 刘宝蕴刘利张彦英宫骏石南林孙超
- 关键词：有机高分子材料聚苯胺抗菌抗菌机制
- 一种Pt和Y改性的梯度Al涂层及其制备工艺
- 本发明公开了一种Pt和Y改性的梯度Al涂层及其制备工艺，属于高温防护涂层技术领域。首先采用电弧离子镀，在高温合金基体上镀一层MCrAlY底层；然后采用电镀的方法在MCrAlY底层上镀一层纯Pt层，并且在真空条件下进行退火...
- 孙超孙健李伟刘书彬姜肃猛宫俊于昊君何平
- (Ti,Al)N涂层应力沿层深分布的调整及大厚度涂层的制备被引量：10
- 2012年
- 利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,Al)N涂层,研究了N_2分压改变对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,低N_2分压下,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深分布较均匀,随N_2分压的增加,涂层应力沿层深呈"钟罩型"分布,且全膜厚的应力值也明显增大;通过对涂层生长结构及微观成分分析,初步探讨了应力分布机理.随N_2分压的增加,涂层硬度会显著增加,而膜/基结合力则大幅下降;采用改变N_2分压工艺制备(Ti,Al)N涂层,可有效调整涂层残余应力沿层深分布趋势,改善其力学性能,并可成功制备厚度在130μm以上的硬质涂层.
- 赵升升程毓常正凯王铁钢孙超
- 关键词：硬质涂层应力分布
- 一种利用电弧离子镀沉积高质量薄膜的装置
- 本实用新型涉及薄膜制备领域，具体地说是一种利用电弧离子镀沉积高质量薄膜的装置，解决由于电弧离子镀中大颗粒的存在，严重影响了涂层和薄膜的性能和寿命等问题。本实用新型双层带孔挡板放置于电弧离子镀沉积装置的靶材与基体之间，与靶...
- 肖金泉郎文昌孙超宫骏杜昊赵彦辉闻立时
- 文献传递
- 一种Al改性WB<Sub>2</Sub>涂层及其制备方法
- 本发明涉及硬质耐磨涂层领域，具体涉及一种Al改性WB<Sub>2</Sub>涂层及其制备方法。采用直流磁控溅射的工艺，在通过调控Al靶电流、基底偏压和沉积温度等参数，在YG8硬质合金上制备了Al改性WB<Sub>2</S...
- 裴志亮李文赫李彤宫骏孙超
- 一种单相铂改性铝化物涂层及其制备工艺
- 本发明公开了一种单相铂改性铝化物涂层及其制备工艺，属于高温防护涂层技术领域。首先在基体上沉积铂以形成镀铂基底层，然后在所述镀铂基底层上沉积Al元素，最终获得单相铂改性铝化物涂层；该涂层为β-(Ni,Pt)Al单相涂层，涂...
- 孙超于昊君姜肃猛刘瑞东宫骏
- 文献传递
- ZnO:Al(ZAO)薄膜的制备与特性研究被引量：27
- 2005年
- 采用磁控溅射技术制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜.研究了不同的工艺参数对薄膜的组织结构和光电特性的影响.实验结果表明,多晶ZAO薄膜具有(001)择优取向且呈柱状生长,能量机制决定其微观生长状态.讨论了薄膜的内应力,高的沉积温度和低的溅射功率可有效减小薄膜的内应力.优化的ZAO薄膜电阻率和在可见光区的平均透射率可分别达到3×10-4-4×10-4Ω·cm和80％以上.
- 裴志亮张小波王铁钢宫骏孙超闻立时
- 关键词：直流反应磁控溅射ZAO薄膜光电特性
