王志明
- 作品数：4 被引量：8H指数：1
- 供职机构：上海大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：“上海－应用材料研究与发展”基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学金属学及工艺更多>>
- 类金刚石薄膜对多孔硅发光的钝化作用
- 2002年
- 介绍了类金刚石薄膜对多孔硅发光的钝化作用．类金刚石薄膜隔绝了外界对多孔硅表面的影响,使硅氢键不易断裂,从而减少了非辐射复合中心,稳定了多孔硅的发光性能．通过在类金刚石薄膜中掺氮还可以进一步提高钝化效果,因为氮使多孔硅表面更多的悬空键被钝化形成Ｓｉ—Ｎ键,从而提高了发光强度．
- 范轶敏居建华张伟丽夏义本王志明方志军王林军
- 系统压强对微波等离子体化学气相沉积金刚石成核的影响(英文)被引量：1
- 2001年
- 为了在氧化铝上制备 (100)定向织构的金刚石薄膜，必须先提高金刚石的成核密度。在微波 等离子体化学气相沉积（ MPCVD）系统中，采用低压成核的方法，在氧化铝陶瓷上沉积出高成核密 度的金刚石薄膜。扫描电镜显示其成核密度可达 108 cm－ 2。在此基础上，沉积出（ 100）织构的金 刚石薄膜。
- 王志明夏义本杨莹方志军王林军居建华张伟丽范轶敏
- 关键词：MPCVD金刚石膜氧化铝气体压力
- 金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核被引量：6
- 2002年
- 在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统中,用低压成核方法,在氧化铝陶瓷基片上获得了高成核密度的金刚石薄膜.实验表明,金刚石成核密度随系统压强减小而提高.在此基础上,提出一种MPCVD系统中金刚石成核的动力学模型,并指出对应于最高成核密度有一临界压强存在.
- 王志明夏义本杨莹方志军王林军居建华范轶敏张伟丽
- 关键词：金刚石薄膜MPCVD氧化铝陶瓷成核化学气相沉积基片
- 氧化铝陶瓷衬底上金刚石[100]织构生长的氦增强刻蚀(英文)被引量：1
- 2001年
- 用微波等离子体化学气相沉积法（ MPCVD）在氧化铝陶瓷衬底上成功地制备出具有 [100] 织构的金刚石薄膜，并对该薄膜进行了 X射线衍射（ XRD）、扫描电子显微镜（ SEM）和 Raman光 谱分析。由于氦原子具有高的电离能，因此本工作在反应气氛中引入了少量的氦，以提高氢等离 子体的刻蚀效率。实验结果表明，少量氦气的引入促进了等离子体对非（ 100）面的选择性刻蚀， 从而也有利于金刚石薄膜的 [100]织构生长。
- 方志军夏义本居建华王林军张伟丽王志明
- 关键词：MPCVD织构金刚石薄膜
