您的位置： 专家智库 > >

朱新旺

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：华中科技大学更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇光学
  • 1篇等离子体
  • 1篇紫外光刻
  • 1篇激光
  • 1篇激光等离子体
  • 1篇激光技术
  • 1篇极紫外
  • 1篇极紫外光刻
  • 1篇光技术
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻机
  • 1篇光学系统
  • 1篇光源
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光学
  • 1篇ZEMAX
  • 1篇CO2激光

机构

  • 2篇华中科技大学

作者

  • 2篇朱新旺
  • 1篇卢彦兆
  • 1篇王新兵
  • 1篇石玉华

传媒

  • 1篇激光技术

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
CO2激光等离子体极紫外光源收集镜研究被引量：2
2010年
为了研究极紫外光源系统中收集镜的形状和液体微滴的漂移,计算了收集镜的参量,并采用ZEMAX模拟了液体微滴上下和左右漂移50μm,100μm,150μm时中间焦点的成像变化情况。结果表明,液体微滴在上下方向上的漂移对中间焦点成像的影响很大,应该尽量将上下漂移控制在20μm以下;而液滴在光轴方向上的漂移对中间焦点成像的影响稍小。
朱新旺王新兵傅焰峰卢彦兆石玉华
关键词：激光技术X射线光学激光等离子体ZEMAX
光刻机光源中单元光学系统的ZEMAX模拟
极紫外光刻(EUVL)是下一代光刻技术中最有前途的方法，它向人们提供了突破22nm 节点的途径。但是，限制EUV 技术发展的一个主要制约因素是大功率，高质量大功率的EUV 光源难以获得。根据预测，如果将EUV 技术应用于...
朱新旺
关键词：极紫外光刻光刻机
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0