张国伟
- 作品数：4 被引量：9H指数：2
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室更多>>
- 发文基金：长春市科技计划项目更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 降低AWG插入损耗和串扰设计新方法(英文)被引量：6
- 2007年
- 在AWG器件的设计中引入了抛物线型的楔形波导结构,根据过渡区理论优化了引入的抛物线型楔形结构的形状和尺寸.采用抛物线型楔形结构代替直线型楔形结构,AWG的插入损耗降低了2 dB左右.在优化参数时使输出/输入波导间距与阵列波导间距取不同的值,并使输出/输入波导间距适当增大,而阵列波导间距取较小值,这样使得串扰降至-30 dB以下且插入损耗保持在低水平.运用光束传播方法给出器件的输出光谱并证实了理论上预想的结果.
- 许英朝张国伟鄂书林张大明邓文渊唐晓辉
- 关键词：阵列波导光栅插入损耗串扰
- 32信道聚合物阵列波导光栅的制作与测试
- 2006年
- 对一个32通道的聚合物阵列波导光栅进行了研究和制作。经过旋涂、光刻、反应离子刻蚀等工艺过程,利用Al掩膜技术和回融技术进行了器件的制作。实验结果表明,回融技术使样本的波导表面的均方根粗糙度降低了约0.02μm。测试结果表明,器件的结构指标与理论设计值基本相符,并且波导在C波段上实现了单模传输。器件的插入损耗约为35dB,相邻通道串扰小于-20dB,很好地实现了波分复用功能。
- 许英朝张国伟鄂书林唐晓辉张大明
- 关键词：阵列波导光栅
- 聚合物阵列波导光栅的制作技术被引量：2
- 2006年
- 研究了聚合物阵列波导光栅AWG制作的几个关键技术。首先,为了克服反应离子刻蚀过程中单独使用光刻胶作掩膜而导致的光波导形状和尺寸偏离设计的缺点,采用了光刻胶与金属掩膜相结合的双掩膜技术进行器件制作。详细介绍了双掩膜技术制备聚合物AWG的过程,并得出铝膜作为掩膜的最佳厚度为100nm左右。测试给出了使用和没有使用双掩膜的对比结果,该结果表明使用双掩膜技术制作的波导质量明显好于单独使用光刻胶作掩膜制作的结果。其次,采用蒸气回溶技术来减小反应离子刻蚀产生的波导表面和侧壁的起伏,从而降低了波导的散射损耗。结果表明,蒸气回溶技术使所制作的波导表面的均方根粗糙度从41.307 nm降低到24.564 nm。
- 张国伟鄂书林邓文渊许英朝唐晓辉张大明
- 关键词：聚合物阵列波导光栅
- 聚合物阵列波导光栅波分复用器的研制
- 波分复用技术是光纤通信发展重要的技术之一，该技术已经被证明是解决宽带、大容量光纤网络通信的一种有效方法。密集型波分复用技术的关键器件之一是阵列波导光栅(AWG)，它具有波长间隔小、信道数多、低串扰等特点，而且利于集成。与...
- 张国伟
- 关键词：阵列波导光栅波分复用技术光纤通信
- 文献传递
