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国家高技术研究发展计划(2006AA843134)
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刘明
谢常青
朱效立
姜骥
陈宝钦
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朱效立
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束直写 衍射效率 衍射光学元件 衬底
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谢常青
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
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刘明
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
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张庆钊
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:启辉 原子层沉积 等离子体 刻蚀工艺 电极
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姜骥
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:光刻机 纳米压印光刻 纳米压印 螺孔 螺杆
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陈宝钦
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束
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付强
供职机构:长春理工大学
研究主题:偏振 偏振特性 传输特性 成像 偏振光
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刘兴华
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:有机场效应晶体管 电极 有机半导体材料 有机半导体 真空蒸镀
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李兵
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:X射线光刻 掩模 干法刻蚀 深亚微米 X射线
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赵珉
供职机构:湛江师范学院信息科学与技术学院
研究主题:电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束抗蚀剂
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