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国家科技重大专项(2008ZX02501-009)

作品数：4 被引量：22H指数：3
相关作者：李艳秋刘克杨光华吴少雄张恨更多>>
相关机构：北京理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项教育部长江学者奖励计划更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程更多>>

领域

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机构

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资助

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地区

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共 5 条 记 录，以下是 1-5
李艳秋
供职机构：北京理工大学
研究主题：掩模 极紫外光刻 光源 光刻系统 投影物镜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘克
供职机构：北京理工大学
研究主题：波像差 光刻机 投影物镜 光栅 位相
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴少雄
供职机构：北京理工大学光电学院
研究主题：延拓 光学测量 相位展开方法 相位展开
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨光华
供职机构：北京理工大学
研究主题：极紫外光刻 投影物镜 反射镜 紫外光刻 有限元模型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张恨
供职机构：北京理工大学光电学院
研究主题：延拓 光学测量 相位展开方法 相位展开
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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