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国家中长期科技发展规划重大专项(2009ZX02308)
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刘玉岭
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刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
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牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
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闫辰奇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 去除速率 碱性抛光液
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孙鸣
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
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张金
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 去除速率 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液
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李炎
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:聚苯胺 防腐涂料 磨料 涂料 聚苯胺复合
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胡轶
供职机构:新疆师范大学化学化工学院
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 碱性抛光液 抛光速率
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刘效岩
供职机构:北京七星华创电子股份有限公司
研究主题:化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
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栾晓东
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP 去除速率 碱性 阻挡层
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