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国家高技术研究发展计划(2007AA1416)
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付绍军
洪义麟
刘颖
邱克强
刘正坤
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刘正坤
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 软X射线 离子束刻蚀 衍射效率 全息
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刘颖
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻
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付绍军
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
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周小为
供职机构:中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题:离子束刻蚀 大尺寸 衍射光学元件 衍射效率 刻蚀深度
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徐向东
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
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洪义麟
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
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邱克强
供职机构:沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题:非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
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