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国家重点基础研究发展计划(51363Z04)

作品数：2 被引量：7H指数：2
相关作者：毛世平解群眺薛守迪杨成韬更多>>
相关机构：电子科技大学中国电子科技集团第二十六研究所更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

领域

  • 4个电子电信
  • 3个电气工程
  • 2个金属学及工艺
  • 2个一般工业技术
  • 2个理学
  • 1个化学工程
  • 1个机械工程
  • 1个自动化与计算...
  • 1个医药卫生
  • 1个文化科学
  • 1个自然科学总论

主题

  • 4个原子力显微镜
  • 4个退火
  • 4个退火温度
  • 4个XRD
  • 4个AFM
  • 4个AIN薄膜
  • 4个ALN
  • 4个衬底
  • 4个衬底温度
  • 4个ZNO薄膜
  • 3个XPS
  • 3个ZNO薄膜结...
  • 2个系统设计
  • 2个逻辑器件
  • 2个可编程逻辑
  • 2个可编程逻辑器...
  • 2个基于FPGA
  • 2个编程
  • 2个VHDL语言
  • 1个带隙基准

机构

  • 3个电子科技大学
  • 1个西北工业大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 4个国家重点基础...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个“九五”国家...
  • 1个中国人民解放...
  • 1个中央高校基本...

传媒

  • 4个压电与声光
  • 3个2009四川...
  • 2个物理学报
  • 2个材料保护
  • 2个磁性材料及器...
  • 2个电子元件与材...
  • 1个硅酸盐通报
  • 1个电子工艺技术
  • 1个仪器仪表学报
  • 1个硅酸盐学报
  • 1个电子学报
  • 1个光学学报
  • 1个无机材料学报
  • 1个电子科技大学...
  • 1个功能材料
  • 1个材料导报
  • 1个材料研究学报
  • 1个系统仿真学报
  • 1个Chines...
  • 1个应用光学

地区

  • 3个四川省
  • 1个重庆市
共 4 条 记 录，以下是 1-4
薛守迪
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
研究主题：XRD ZNO薄膜结构 XPS 退火温度 退火
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
毛世平
供职机构：中国电子科技集团第二十六研究所
研究主题：XRD ZNO薄膜结构 XPS 退火温度 退火
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
解群眺
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
研究主题：XRD 退火 COFE ZNO薄膜结构 XPS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨成韬
供职机构：电子科技大学
研究主题：PZT 铁电薄膜 射频磁控溅射 ALN薄膜 压电薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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