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国家重点基础研究发展计划(2006CB0N0604)

作品数：7 被引量：34H指数：4
相关作者：陈宝钦赵珉刘明谢常青牛洁斌更多>>
相关机构：中国科学院微电子研究所湛江师范学院更多>>
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地区

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共 9 条 记 录，以下是 1-9
陈宝钦
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵珉
供职机构：湛江师范学院信息科学与技术学院
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束抗蚀剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛洁斌
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束曝光 衬底 电子束直写 衍射光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤跃科
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 微光刻技术 电子束直写 CIF格式 光学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱效立
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束直写 衍射效率 衍射光学元件 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡勇
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：微光刻技术 光学 电子束直写 电子束曝光系统 数据处理
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李金儒
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 CIF格式 电子束直写 微光刻技术 CIF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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