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国家自然科学基金(60276019)

作品数:9 被引量:18H指数:2
相关作者:刘明陈宝钦谢常青徐秋霞龙世兵更多>>
相关机构:中国科学院微电子研究所中国工程物理研究院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

领域

  • 22个电子电信
  • 16个一般工业技术
  • 14个自动化与计算...
  • 12个理学
  • 8个金属学及工艺
  • 8个机械工程
  • 8个文化科学
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  • 6个化学工程
  • 6个电气工程
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  • 4个核科学技术
  • 3个轻工技术与工...
  • 2个天文地球
  • 2个农业科学
  • 1个生物学
  • 1个矿业工程

主题

  • 22个光刻
  • 21个纳米
  • 20个电子束光刻
  • 17个电子束曝光
  • 17个光刻技术
  • 16个电子束
  • 15个电路
  • 15个电子束直写
  • 14个电子器件
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  • 12个定影
  • 11个单电子器件
  • 11个电极
  • 11个淀积
  • 11个旋涂
  • 10个氮化
  • 10个氮化硅
  • 10个电子束抗蚀剂
  • 9个电子束曝光系...
  • 7个氮化硅薄膜

机构

  • 21个中国科学院微...
  • 6个中国科学院微...
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  • 1个北京科技大学
  • 1个电子科技大学
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  • 1个天津大学
  • 1个湛江师范学院
  • 1个浙江大学
  • 1个西南科技大学

资助

  • 22个国家自然科学...
  • 19个国家重点基础...
  • 15个国家高技术研...
  • 7个国家科技重大...
  • 6个中国科学院知...
  • 4个国家科技攻关...
  • 4个江苏省自然科...
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传媒

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  • 7个中国科协第五...
  • 6个光学学报
  • 6个微电子学与计...
  • 6个第二届全国纳...

地区

  • 16个北京市
  • 2个四川省
  • 1个广东省
22 条 记 录,以下是 1-10
刘明
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝钦
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢常青
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙世兵
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 电极 浮栅 非挥发性 电子束直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐秋霞
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:金属栅 半导体器件 刻蚀 沟道 堆叠
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李志钢
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:纳米电子器件 单电子器件 光学光刻技术 纳电子器件 共振隧穿器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康晓辉
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:波带片 纳米压印 高分辨率 电子束 数据研究
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
易里成荣
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:纳米电子器件 单电子器件 光学光刻技术 纳电子器件 共振隧穿器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
叶甜春
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:X射线光刻 沟道 半导体器件 版图 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
涂德钰
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:微电子学 分子电子学 交叉线 电子束光刻 有机分子
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共3页<123>
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