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浙江省重中之重学科开放基金(AMT200708-28)

作品数：1 被引量：7H指数：1
相关作者：马冰迅彭伟许雪峰胡建德更多>>
相关机构：浙江工业大学更多>>
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相关领域：金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光

机构

  • 1篇浙江工业大学

作者

  • 1篇胡建德
  • 1篇许雪峰
  • 1篇彭伟
  • 1篇马冰迅

传媒

  • 1篇中国机械工程

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
无抛光垫化学机械抛光技术研究被引量：7
2008年
应用双电层理论分析了SiO2磨粒与聚苯乙烯粒子在溶液中的ζ电位及粒子间的相互作用机制,观察到SiO2磨粒吸附在聚苯乙烯粒子表面的现象。分析了基于复合粒子抛光液的无抛光垫化学机械抛光技术特点及其材料去除机理。比较试验表明,基于复合粒子抛光液的硅片无抛光垫化学机械抛光具有与传统化学机械抛光相接近的材料去除率和硅片表面粗糙度值,并可避免工件塌边现象的产生。
许雪峰马冰迅胡建德彭伟
关键词：化学机械抛光抛光垫
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