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一种研磨液搅拌装置
本发明属于玻璃打磨技术领域，具体的说是一种研磨液搅拌装置，包括过滤箱，所述过滤箱的内部设置有一对过滤腔，所述过滤腔的底端贯通设置有过滤板，所述过滤板的顶端设置有承接盘，所述承接盘的侧面设置有一对搅拌杆，所述承接盘的顶端设...
曾超程军颜远明
一种研磨液自动添加结构
本实用新型属于精密加工领域，尤其是一种研磨液自动添加结构，针对现有的由于大部分喷头均为固定式设置，且不便于活动旋转，导致在加工去除量的过程中，工件不能够完全得到处理，使得工件整体接触的研磨液不够均匀，减低了加工效果问题，...
姬后兵刘俊男
研磨液自动混合供应系统
本发明涉及研磨液自动混合供应系统，该系统包括混合机构、供应机构、湿氮气发生机构和PLC控制系统。该混合机构设置有混合桶、设置在混合桶底部的混合泵以及设置在混合桶内的至少两个搅拌喷头，搅拌喷头配合混合泵对研磨原液和超纯水进...
胡厚福邵艳荣喻泽喜刘颂刘震柯志操
一种研磨液铁杂质吸附装置
一种研磨液铁杂质吸附装置，有效的解决了现有的对研磨液中的铁杂质吸附时费时费力的问题；包括底板，底板上端设有矩形的主体壳，底板上端设有位于主体壳前方且开口朝上的储液桶，底板上端拆卸连接有位于储液桶右方且开口朝上的废料桶，主...
唐琪朱泽安姚小婷
一种研磨液的循环利用装置
本实用新型公开了一种研磨液的循环利用装置，涉及研磨液的循环利用技术领域，包括回收箱，所述收集腔内转动连接有转轴，所述转轴表面转动连接有履带，所述履带表面等距阵列有刮板，所述履带表面等距阵列有流液口，所述回收箱一侧固定安装...
詹军
一种半导体研磨液材料制备装置
本实用新型公开了一种半导体研磨液材料制备装置，包括：三个不锈钢搅拌釜，三个不锈钢搅拌釜分别为：260L纯水搅拌釜，500L药液搅拌釜以及500L混合搅拌釜，纯水搅拌釜与药液搅拌釜通过三通管连接后再与混合搅拌釜连通；隔膜泵...
马东李海龙李晓玲
一种碳化硅衬底晶片用研磨液
本发明属于研磨液技术领域，尤其为一种碳化硅衬底晶片用研磨液，包括以下重量份数的组分原料：金刚石微粉5‑12份；纯水35‑80份；悬浮剂15‑25份；分散剂10‑18份；乳化剂5‑10份；润滑剂15‑20份；消泡剂0.5‑...
王来福王志强罗俊李龙飞马飞跃
一种研磨液及其制备方法和应用
本发明公开了一种研磨液及其制备方法和应用，制备原料包括：有机酸、磨料、磨料保护剂和哑面剂，所述有机酸包括磺基水杨酸和磺基丁二酸中的至少一种；所述磨料包括板状氧化铝；所述磨料保护剂包括乙酰化二淀粉磷酸酯和羟丙基二淀粉磷酸酯...
陈腾飞王勇泉
一种单晶金刚石研磨液储存装置
本发明公开了一种单晶金刚石研磨液储存装置，属于金刚石研磨液领域；包括储存罐和均液结构；均液结构包括平台板，平台板上设置有供储存罐转动的转动结构；转动结构包括设置在平台板四角位置的从动轮、设置在平台板上的主动轮；从动轮两两...
田乐朱晓森常亚听
浆料、研磨液的制造方法以及研磨方法
本发明的浆料为含有磨粒及液态介质的浆料，其中，所述磨粒包含第1粒子及与该第1粒子接触的第2粒子，所述第1粒子含有铈氧化物，所述第2粒子含有铈化合物，并且由下述式(1)算出的Rsp值为1.60以上。式(1)：Rsp＝(Tb...
久木田友美岩野友洋松本贵彬长谷川智康
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陈岚
作品数：911被引量：175H指数：5
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：版图 电路 研磨 集成电路版图 CMP
徐勤志
作品数：85被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：研磨 研磨液 CMP 化学机械研磨 表面形貌
吕冰海
作品数：401被引量：740H指数：12
供职机构：浙江工业大学
研究主题：抛光 抛光液 磨粒 研磨 研磨盘
邓乾发
作品数：238被引量：212H指数：8
供职机构：浙江工业大学
研究主题：磨粒 抛光 抛光液 研磨 固着
刘晓初
作品数：637被引量：346H指数：10
供职机构：广州大学
研究主题：研磨 研磨加工 轴承 灌溉 轴承套圈