您的位置： 专家智库 > >

吕文利

作品数：5 被引量：12H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

  • 8个电子电信
  • 5个自动化与计算...
  • 3个金属学及工艺
  • 3个电气工程
  • 2个冶金工程
  • 1个核科学技术
  • 1个一般工业技术

主题

  • 6个硅片
  • 5个总线
  • 4个系统设计
  • 4个现场总线
  • 4个基于现场总线
  • 3个电池
  • 3个电路
  • 3个陶瓷
  • 3个膜集成电路
  • 3个控制系统
  • 3个化学机械抛光
  • 3个机械抛光
  • 2个摇摆
  • 2个以太
  • 2个以太网
  • 2个锗硅
  • 2个真空
  • 2个石墨
  • 2个太阳能
  • 2个通讯模块

机构

  • 9个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个电子工业部
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 2个电子信息产业...
  • 2个国家电子信息...
  • 1个国家高技术研...

传媒

  • 8个电子工业专用...
  • 4个自动化与仪器...
  • 2个工业控制计算...
  • 2个金属加工（热...
  • 1个电源技术应用
  • 1个磁性材料及器...
  • 1个电子产品可靠...
  • 1个微细加工技术
  • 1个电工技术
  • 1个第十三届全国...
  • 1个中国电源学会...

地区

  • 1个北京市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
魏唯
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：MOCVD 软磁铁氧体材料 软磁 高温 铁氧体烧结
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋超
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：衬底 CMP 薄膜集成电路 化学机械抛光 陶瓷
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭忠君
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：AS-I PROFIBUS-DP 硅片 基于现场总线 现场总线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱宗树
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：衬底 CMP 薄膜集成电路 化学机械抛光 陶瓷
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何华云
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：MOCVD GAN 生产型 高温 可编程控制器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王理正
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：摇摆 恒张力控制 蓝宝石 金刚石 抄表
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘嘉宾
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：摇摆 恒张力控制 蓝宝石 均压环 金刚石
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王慧勇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：MOCVD MO源 反应器 计算方法 利用率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邓斌
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：LTCC 烧结炉 低温共烧陶瓷 传送系统 网带式
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0